6.3.4.6 C-Ψs方法∈《碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件和应用》
描述
6.3.4.6 C-Ψs方法
6.3.4 电学表征技术及其局限性
6.3 氧化及氧化硅/SiC 界面特性
第６章 碳化硅器件工艺
《碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件和应用》
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