6.1.6 离子注入及后续退火过程中的缺陷行成∈《碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件和应用》
描述
6.1.6 离子注入及后续退火过程中的缺陷行成
6.1 离子注入
第６章 碳化硅器件工艺
《碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件和应用》
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