9.5.5 极紫外光掩模∈《集成电路产业全书》
描述
Extreme Ultraviolet Lithography Photomask（EUV）
撰稿人：中芯国际集成电路制造有限公司 郭贵琦
审稿人：中芯国际集成电路制造有限公司 时雪龙
9.5 光掩模和光刻胶材料
第9章 集成电路专用材料
《集成电路产业全书》下册
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