Atonarp 质谱仪通过数字分子分析推进半导体过程控制

先进半导体应用的原位过程控制
上海伯东日本 Atonarp Aston™  Impact 和 Aston™ Plasma 是超紧凑型质谱仪, 适用于先进半导体工艺（如沉积和蚀刻）所需的定量气体分析.

 

分子测量 快速，灵敏度达到十亿分之一 检测残留气体 / 冷凝物污染.

提高产量 提供化学特定的可操作见解, 尽可能地提高产量

提高安全性 监测爆炸性气体. 检查排放和减排效果.

 

Aston™ 质谱仪解决了关键的原位计量问题

• 提高吞吐量:端点检测而不是基于时间的流程
• 提高产量: 以十亿分之一的灵敏度测量沉积和蚀刻工艺期间的工艺气体 / 副产物

Aston™ 质谱仪先进工艺的优势
ppb 级灵敏度的高速采样
非常适合高纵横比的 3D 结构
耐腐蚀性气体
坚固紧凑
易于集成到工具平台中
沉积应用中:  实时过程气体监控，以驱动自动化工具调整以实现过程控制, 沉积步骤之间的终点检测, 实现层的化学计量工程
蚀刻应用中: 以 ppb 为单位测量的工艺气体和副产品, 启用端点腔室清洁

Atonarp  Aston™ 技术参数

 

类型	Impact-300	Impact-300DP	Plasma-200	Plasma-200DP	Plasma-300	Plasma-300DP
型号	AST3007	AST3006	AST3005	AST3004	AST3003	AST3002
质量分离	四级杆
真空系统	分子泵	分子泵 隔膜泵	分子泵	分子泵 隔膜泵	分子泵	分子泵 隔膜泵
检测器	FC /SEM
质量范围	2-285	2-220	2-285
分辨率	0.8±0.2
检测限	0.1 PPM
工作温度	15-35“℃
功率	350 W
重量	15 kg
尺寸	299 x 218 x 331 LxWxH(mm)	400 x 240 x 325 LxWxH(mm)

 

Aston™ 质谱仪半导体制造应用

 

先进的工艺 原子层沉积 (ALD) 化学气相沉积 (CVD) 原子层蚀刻 (ALE) 腔室管理 干净的终点检测 指纹识别和匹配   Sub-fab安全性, 可持续性和节省优化 过程安全监控 干泵保护 减排管理

沉积 化学气相沉积 钨 TEOS 蚀刻 介电,导电,金属 高纵横比 <1% 开放区域检测 EUV/光刻 SnH4 蚀刻 光掩模蚀刻 自主过程控制 模型驱动的实时过程监控

 

审核编辑 黄宇