7月6日消息,据台媒报道,ASML试图规避荷兰新销售许可禁令,面向中国大陆市场推出特别版DUV ***。
消息称如果该项目继续推进,中芯国际、华虹等半导体企业可以继续使用ASML的设备生产 28 纳米及更成熟工艺的芯片。
消息称该特别版 DUV ***基于 Twinscan NXT: 1980Di 光刻系统改造,而 1980Di 是 10 年前推出的旧型号,不在本次官方禁令范围内。1980Di 是 ASML 现有效率比较低的***,支持 NA 1.35 光学器件、分辨率可以达到 <38 nm,理论上可以支持 7nm 工艺。大多数晶圆厂使用 1980Di ***,主要生产 14nm 及以上工艺芯片,很少使用其生产 7nm 芯片。
不过,ASML对此最新回应表示:一直以来ASML都遵守所适用的法律条例,我们并没有面向中国市场推出特别版的***。
但行业人士表示,报道指出的特别版DUV***是基于Twinscan NXT:1980Di光刻系统改造,作为10年前就已经推出的型号,因为技术已经严重退档,所以不在新的和旧有的禁令中。虽然这类***理论上可以支持7nm芯片的制造,但因其生产效率极低,良品率太差,很少半导体公司在使用。
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