利用微腔Fano共振实现硅基中红外片上气体传感器

MEMS/传感技术

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中红外光谱传感对于不同气体的检测和监测是非常理想的。然而,研究人员期望探索耦合谐振器在中红外传感中的作用,这有望提高这种传感器的性能。

据麦姆斯咨询报道,近日,美国大学开罗分校(The American University in Cairo)的科研团队在Scientific Reports期刊发表了以“Silicon-based mid infrared on-chip gas sensor using Fano resonance of coupled plasmonic microcavities”为主题的论文。该论文的第一作者为Sherif M. Sherif,通讯作者为Mohamed A. Swillam。

这项研究报道了一种基于法诺(Fano)共振的中红外传感器,其在6.5 μm波长下灵敏度达到6000 nm/RIU,插入损耗为0.45 dB。研究人员首先分析了直列结构(in-line)矩形谐振腔的响应及其谐振曲线,随后研究了齿形(stub)谐振腔的光谱响应和共振频率阶数(resonance orders)。接着,研究人员将in-line和stub矩形谐振腔集成在同一器件;并对其进行优化,使其在接近频率下共振;同时还研究了这些耦合谐振腔的响应。最后,研究人员开发出在同一颗芯片上检测两种气体的传感器,这是通过激发与“CH₂O和N₂O气体在3.6 μm和4.46 μm中红外强吸收波段”对应的两个Fano共振来实现的。

这项研究工作利用掺磷的硅(Si)实现了中红外等离子体效应。如图1所示,在3 μm的蓝宝石衬底上刻蚀厚度220 nm的掺杂硅晶圆,以形成宽度100 nm的总线波导(bus waveguide)。在硅层中掺杂磷(掺杂浓度为5 × 10²⁰ cm⁻³),使其等离子体共振波长达到3 μm,从而在中红外光谱具有等离子体特性。研究人员利用基于有限元差分本征模(FDE)求解器的商用波导仿真软件计算了金属-绝缘体-金属总线波导的模态特性,结果如图2所示。此外,研究人员还研究了在4 μm - 10 μm的中红外波段受激等离子体模态的色散和传输损耗,结果如图3所示。

气体传感器

图1 基于Fano共振的传感器3D示意图

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图2 等离子体槽的有效模态:(a)电场强度(对数刻度),(b)电场分量|Ex|(线性刻度)。

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图3 受激等离子体模态的色散曲线

Fano共振是将离散的局部态与连续态耦合的结果。为了激发结构中的Fano共振,研究人员在同一结构上集成了in-line谐振腔与stub谐振腔,并对其进行了优化。如图4所示,在5.5 μm和6.5 μm波长下激发Fano共振,插入损耗为0.45 dB。图5显示了激发Fano共振时,谐振腔内的电场分布。

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图4 在5.5 μm和6.5 μm波长下激发Fano共振

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图5 激发Fano共振时,谐振腔电场分量Ex分布

许多气体在中红外波段有很强的吸收波段“指纹”。因此,为了检测这些气体,研究人员在目标气体的吸收波段激发高灵敏度的Fano共振。通过将in-line谐振腔与两个stub微腔相集成来设计传感器,可以实现不同气体的同时检测,如图6所示。CH₂O和N₂O分别在3.6 μm和4.46 μm波长下被检测,结果如图7所示。多气体传感器的传输光谱结果如图8所示。

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图6 用于同时检测CH₂O和N₂O的基于Fano共振的传感器3D示意图

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图7 (a)CH₂O和(b)N₂O气体的红外吸收光谱

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图8 CH₂O和N₂O同时在3.6 μm和4.46 μm波长下的检测结果

综上所述,这项研究开发了一种中红外气体传感器,该传感器由掺杂硅层构成,硅层被蚀刻以形成等离子槽波导、in-line谐振腔和stub谐振腔。所使用的掺杂水平将硅的等离子体共振提升至3 μm,从而实现中红外波段的等离子体特性。研究人员分别研究了上述每种谐振腔的性能,随后将这些谐振腔集成在一起。在接近频率耦合时,由于in-line微腔的宽响应与stub腔的强烈共振相互干涉,从而激发了Fano共振。最后,研究人员测量了该传感器的灵敏度、FOM以及插入损耗等性能参数。





审核编辑:刘清

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