上海伯东光刻机氦质谱检漏法

上海伯东客户日本某生产半导体用光刻机公司, 光刻机真空度需要达到 1x10-11 pa 的超高真空, 因为设备整体较大, 需要对构成光刻机的真空相关部件进行检漏且要求清洁无油, 满足无尘室使用要求, 为了方便进行快速检漏, 采购伯东 Pfeiffer 便携式氦质谱检漏仪 ASM 310.

光刻机检漏方法: 采用真空模式检漏, 漏率值设定为 1x10-11pa m3/s.
1. 通过波纹管与光刻机真空系统连接
2. 使用喷枪, 喷扫管路, 腔体焊缝, 接头等部位, 如果存在超过设定漏率值的狭缝, 检漏仪会时时发出声光报警, 同时在屏幕上显示漏率值.
 

便携式氦质谱检漏仪 ASM 310 主要技术参数：

对氦气的最小检测漏率	真空模式 5E-13 Pa m3/s ,吸枪模式 1E-8 Pa m3/s
检测模式	真空模式和吸枪模式 检漏方法>>
氦质谱检漏仪无油前级泵抽速	1.7 m3/h
检测气体	4He , 3He, H2
响应时间	<1s
对氦气的抽气速度	1.1 l/s
氦质谱检漏仪进气法兰	DN 25 ISO-KF
进气口最大压力	15 hPa
通讯接口	RS-232
工作温度	10-40 °C
噪音水平	< 45 dB (A)
尺寸	350 X 245 X 141 mm
重量	21 kg (46 lb)

鉴于客户信息保密, 若您需要进一步的了解光刻机检漏, 请联络上海伯东叶女士


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