佳能推出纳米压印半导体制造设备 或为中美竞争增添新战线

　　日本佳能公司10月13日宣布，将推出fpa-1200nz2c纳米印花（nil）半导体制造设备。该设备执行电路模式传送，这是最重要的半导体制造工程。

　　据佳能介绍，传统的光刻设备将电路图案投射到涂有防腐剂的晶片上，而新产品就像邮票一样，在晶片上印上印有电路图案的掩模来实现这一目标。由于电路图案的传递过程不经过光学结构，因此可以在晶片上准确再现掩模的细微电路图案。

　　目前佳能的nil技术将对应5纳米节点逻辑半导体的模式的最小线幅设定为14纳米。此外，随着掩模技术的发展，nil将提供10纳米的最小图案宽度，相当于2纳米节点。

　　5纳米芯片制造设备业界由asml主导，因此佳能的纳米打印方式将缩小其差距。

　　有报道称，佳能的装备也可能成为中美竞争的新战线。美国禁止向中国出口euv设备。这是目前为止能够制造出5纳米或更小芯片的唯一可靠方法。

　　佳能的技术完全超越了光刻技术，可以将必要的电路图案印刷到硅晶片上。由于它的新颖性，现有的贸易限制不太可能明确禁止它。

　　佳能发言人拒绝评论新设备是否会受到日本的出口限制。

　　据悉，纳米压力机（nano press）是SK海力士和东芝作为光学光刻的低费用替代方案推进的，东芝的前存储器事业部负责人在纳米压力机商用化之前，曾对佳能的纳米压力机进行过测试。

　　佳能在2014年收购了纳米印花的先驱molecular imprints inc.对该技术进行了近10年的研究。佳能还以2025年启动为目标，20年来首次在东京北部的宇都宫市建设照相设备新工厂。