东京电子3D NAND蚀刻新技术或挑战泛林市场领导地位

　　东京电子正在以能够给美国的竞争公司panlin带来数十亿美元收益的划时代的3d nand闪存通道蚀刻技术追击。

　　以100%的市场占有率在该领域占据优势的泛林集团在东京电子今年6月公布新技术时似乎没有受到太大威胁。泛林集团首席执行官（ceo）Tim Archer就突破东京电子的影响表示：“考虑到我们所处的位置和出发点，有信心保持在该领域的领先地位和市场占有率。”

　　据悉，东京电子新技术的目标是能够长时间储存数据的3d nand闪存。该公司开发了一种新的通道孔蚀刻方法，该方法是将垂直孔快速深插入存储单元。3D nand的存储器容量可以通过将存储器单元层垂直堆积来增加，如果层数增加，就需要性能更高的装置。

　　东京电子公司表示，该技术可以冷却比现有技术快2.5倍的400多个洞，而且可以大幅减少对地球变暖的影响。

　　东京电子预测说，nand通道工程市场将从2023年的5亿美元扩大到2027年的20亿美元。如果范林不能制造出能够与东京电子的突破相抗衡的产品，两家公司的市场占有率有可能会发生逆转。这将对东京电子的收益起到很大的促进作用。截至2023年3月的会计年度，新蚀刻设备的总销售额略低于5800亿日元（约39亿美元），约占总销售额的四分之一。

　　三菱ufj摩根斯坦利证券分析师tetsuya wadaki预测说：“到2023年，蚀刻设备市场规模将超过200亿美元。泛林集团将占据市场的一半左右，东京电子将以25%左右的占有率位居第二。”随着新技术的引进，东京电子公司将在未来几年内在所有的蚀本系统中超过泛林集团。”