机器视觉成像:明场像与暗场像都有什么区别呢

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描述

反射光与光源角度相同。明场:光线反射后进入照相机。暗场:光线反射后未进入照相机。

 

光源

 

明场照明:

1.对形成高对比度有益,但反光表面会生成镜面反射;

2.光源范围应在照相机透镜视野的两倍处;

3.避免 “热点”: 漫射光源在明场提供均匀照明。

光源

暗场照明:

1.漫射光被反射进入照相机但镜面反射光线被反射离开;

2.光源在“W”之外 ;

3.除有纹理的表面和凸高变化的表面之外,光线被反射而不进入照相机。

光源

明场像与暗场像都有什么区别呢

一个是透射束成像,一个是衍射束成像

透射电镜图像分为试样的显微像和衍射花样,这两种像分别为不同电子成像,前者是透射电子成像,后者为散射电子成像。 

透射电镜中,不仅可以选择特定的像区进行电子衍射(选区电子衍射),还可以选择成像电子束。(选择衍射成像) 

明场像(BF):选用直射电子形成的像(透射束),像清晰。 

暗场像(DF):选用散射电子形成的像(衍射束),像有畸变、分辨率低。 

成像电子的选择是通过在物镜的背焦面上插入物镜光阑来实现的。

中心暗场像(CDF):入射电子束对试样倾斜照明,得到的暗场像。像不畸变、分辨率高。 

暗场成像条件下,成像电子束偏离透射电镜的光轴,造成较大的像差,成像质量差,为获得高质量暗场像,采取中心暗场成像。即入射电子束反向倾斜一个相应的散射角度,使散射电子沿光轴传播。

所谓明场,暗场成像只是对低倍观察时说的。

一般来说,观察形貌我们都比较喜欢用明场像,因为成像衬度好(尤其是加了合适的光阑),形变小。其主要表现为厚度衬度,对厚度敏感。

而观察缺陷如位错,孪晶的时候喜欢用暗场像,因为暗场像是来自于选定的某个衍射束,对应于晶体特定的晶面。在缺陷地方,电子衍射的方向和完整的地方不一样,从而使得缺陷地方能够在暗场像上清楚的显示出来。而明场像因为是多个衍射束的成像,对缺陷不敏感,虽然有时候也能反应出缺陷,但是及其模糊。其主要表现为衍射衬度。也就是对衍射面敏感。

比如说一个孪晶材料,对于明场,孪晶界面很淡,但是选择合适的衍射点做暗场像可以很清楚的看见孪晶界面。而且选择其中一个晶体特有的衍射点,做暗场可以发现只有这一个晶体出现在图像上,而另外一个晶体看不见。

对于暗场一个重要的用途是观察层错,比如说立方晶系里面的111方向的层错用明场像无法看出来。因为有缺陷和无缺陷的地方厚度一样。但是暗场像在特定的方向观察时,可以观察到三角形或者蝴蝶状甚至金字塔装的衬度明暗条纹。这个时候用到的一个TEM技术叫做双束。

其实不论明场还是暗场,他们都服务于被测物取决于客户对被测物检测的需求,它们都各有优势,更重要的是,我们如何利用它们的优势更好的服务于整体的检测系统。

总的来说,没有哪个光源是更好的,只有哪个光源是更适合的

编辑:黄飞

 

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