pcb正片和负片流程差异

pcb正片和负片流程差异 

PCB正片和负片是PCB制造过程中的两个重要步骤，它们之间有一些差异。下面我们将详细探讨这两个过程的流程及其差异。

首先，让我们先了解一下正片和负片的概念。在PCB制造中，光刻工艺主要涉及到照相板的制作。正片通常用来制作PCB的铜层图案，而负片则用于制作PCB的阻焊、字符标识等图案。

正片流程：

1. 设计制图：首先，根据PCB设计图纸，使用CAD软件进行图纸制作，包括布线、元件安装位置、阻焊区域等。

2. 制作底片：将图纸转化为适用于PCB制作的底片，通常使用半透明胶片进行印刷。

3. 准备感光涂层：为了使底片上的图案可以被转移至PCB材料上，需要在PCB材料上涂敷一层感光涂层。

4. 曝光与显影：将底片放置在涂有感光剂的PCB材料上，通过曝光机的照射，将底片上的图案转移至PCB材料上。然后，将曝光后的PCB材料进行显影，去除未曝光的部分感光涂层，留下曝光部分。

5. 腐蚀：使用化学品对经过显影的PCB材料进行腐蚀处理，去除曝光区域的铜层，只保留布线、焊盘等需要的电路。

6. 清洗：将腐蚀后的PCB进行清洗，去除残留的感光剂和腐蚀剂。

7. 阻焊和字符标识：根据PCB设计要求，对PCB进行阻焊和字符标识处理。

负片流程：

1. 设计制图：和正片一样，首先需要设计制图，包括阻焊、字符标识等图案。

2. 制作底片：将设计好的图纸转化为适用于PCB制作的底片。

3. 准备底片：将底片放置在一张普通底片上，将两张底片贴合，确保定位准确。

4. 曝光与显影：将负片放置在涂有感光剂的PCB材料上，通过曝光机的照射，将负片上的图案转移至PCB材料上。然后，将曝光后的PCB材料进行显影，去除未曝光的部分感光涂层，留下曝光部分。

5. 腐蚀：使用化学品对经过显影的PCB材料进行腐蚀处理，去除未受曝光区域的铜层，只保留布线、焊盘等需要的电路。

6. 清洗：将腐蚀后的PCB进行清洗，去除残留的感光剂和腐蚀剂。

7. 阻焊和字符标识：根据PCB设计要求，对PCB进行阻焊和字符标识处理。

正片和负片流程的主要差异在于制作底片的方式和曝光过程中图案的转移方向。在正片流程中，制作底片是直接将设计好的图纸转化为适用于PCB制作的底片。而在负片流程中，需要先制作一张负底片，再将其与一张普通底片贴合，并通过曝光将负底片上的图案转移到PCB材料上。

此外，正片和负片流程中的其它步骤，如准备感光涂层、显影、腐蚀、清洗、阻焊和字符标识等，都是相同的。

总结起来，正片和负片在PCB制造过程中的流程差异主要体现在制作底片的方式和曝光过程中图案的转移方向上。正片是直接将设计好的图纸转化为底片，而负片需要制作一张负底片，并与普通底片贴合。其他步骤如感光、显影、腐蚀、清洗和阻焊等都是相同的。这两个过程的差异使得它们可以实现PCB的不同图案要求，从而满足不同的PCB设计需求。