EUV反射镜的镀膜工艺:如何选择合适的镀膜机

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我们知道了EUV波长用的是13.5nm,这么短的波长,玻璃吸收很严重,光刻机里面,只能用反射法。

光刻机

我们也知道了这些反射镜的要求很平——50皮米!

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光是抛光得平还不够,镀膜也要平!

那是使用什么镀膜机呢?

是来自布勒莱宝光学公司的NESSY series。

网络上说,长春光机所02专项采购的就是NESSY系统,小编没有渠道核实哈。

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1:Heated load lock加热负载锁;2. Handling for loading/unloading装卸装置;3:Planetary substrate drive with sub-rotation and speed profiles行星基板;4:Chamber lid for ease in service 维修腔体;5:Magnetron-sputtering cathodes PK 600 磁控溅射阴极PK 600;6:Adjustable sputter distance可调溅射距离;7:Cryo pump低温真空泵;8:Dry pre-vacuum pump set干式预真空泵组

真空度:< 9 * 10–9 mbar;

亚原子范围内的统计层精度(例如7 nm+/-0.25%);

适用于多种材料(包括用于EUV反射镜的Mo和Si);

基板高度可高达240mm,载体板尺寸直径可高达662mm;

对基板移动进行仔细管理和将基板支架的机械公差降至最低,实现无与伦比的厚度均匀性溅射工艺的卓越稳定性和极高水平的层厚度精度。NESSY系列具有额外的双旋转和可变速度轮廓speed profile,达到EUV光学应用中所需的亚原子均匀性值。

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通过光密度测量钼单层的均匀性,数据显示,在优化的情况下,直径超过450 mm时为±0.15%。

NESSY series是生产x射线或极紫外(EUV)光谱范围内反射镜的理想工具。

optiX晶圆厂镀膜的最大反射镜是直径为662毫米。重达 40 公斤,花了一年时间开发涂层配方。基板上有 300 层。入射角从中心的 6 度到边缘的 36.5 度不等,需要层的厚度从 6.883 nm 到 8.459 nm 变化——所有这些都在不到 10 皮米的精度下进行。

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如今,实现了 1、2 或 3 皮米的精度。对于来自爱尔兰的客户,该团队使用的波长为 2.745 nm。这意味着要构建 2,000 层,每层厚度在 0.1 nm 到 0.6 nm 之间。其中一个关键参数是确保多层堆栈中的第一层与最后一层的厚度完全相同。“机器需要稳定 12 小时以上才能实现这一目标。借助 NESSY,布勒实现了这一点。这是一项工程杰作,“Feigl 博士说。

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审核编辑:黄飞

 

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