数据存储技术未来发展趋势与前景展望

存储技术

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描述

在当今信息爆炸的时代,数据量不断增长,对存储技术的需求也日益增长;面对这一挑战,磁带、HDD、软盘、SSD、光盘、新型存储以及云存储等存储技术应运而生,它们各具优势,在不同的应用场景中发挥着重要作用。本篇文章将探讨各类数据存储技术的特点、应用场景与进化趋势。                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                           

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引言

作为承载信息和知识的媒介,数据始终伴随着人类社会的发展进程。从文明初始的“结绳记事”,到文字发明后的“文以载道”,再到近现代科学的“数据建模”,数据记录了人类认识世界的历程。数据存储技术不断创新和演进,经历了从简单的物理存储到复杂的数字化存储的演变过程,每一次技术的革新都极大地推动了社会生产力的发展和信息时代的进步。随着新技术的不断涌现,如人工智能、区块链、深度学习、数字孪生、元宇宙的应用,数据存储技术将继续迎来新的挑战和机遇。   2

各类数据存储技术的特点

数据存储对于数据挖掘与分析、数据整合与共享、智能决策支持、业务模式创新以及优化资源配置等方面具有重要作用。按照存储介质不同,数据存储技术主要可分为磁性存储、光学存储以及半导体存储三大类。

2.1 磁性存储

磁存储广泛应用于备份、归档、冷数据存储等场景;磁存储密度高、价格低,且适合于大规模的数据存储和备份。   磁带的优点在于其容量大、价格低、可靠且易于存档;此外,磁带还具有良好的耐久性,适合长期存储数据。HDD(机械硬盘)具有容量大、价格低、耐用性高的优点;此外,HDD还具有较高的数据传输速度,能够满足大量数据的存储需求。磁存储的局限性主要表现在易受物理损害、速度限制、功耗和发热、噪音和振动、数据恢复难度、容量上限等方面。   随着SSD(固态硬盘)的不断进步和价格的下降,HDD面临着日益激烈的市场竞争压力。然而,由于在成本和容量方面的优势,HDD在大容量存储和长期数据存储领域仍将保持其重要性。   磁存储也在持续发展,例如通过采用更先进的磁记录材料和技术(如铁磁顺序存储)来提高存储器件的制造工艺、存储密度和性能,有望成为未来高性能存储器件的重要技术之一。  

2.2 光存储

光存储的优势是数据存储、管理和处理的高效性和可靠性。光存储提供了如大容量数据存储包括机器运行数据、产品设计文件、质量控制记录等。同时,光存储具有数据安全与长期存档、数据的可靠性读取、离线数据访问、成本效益较高等优势。   在数据备份与恢复方面,光存储可作为磁存储的优选替代,以用于重要数据的保护。对于需要大量存储空间且数据重要性高、修改频率低的场合,光存储是最佳的解决方案;在构建异地灾备系统时,光存储能够有效抵御地震、火灾等自然灾难对数据安全构成的威胁,确保数据的完整性和可靠性。光存储不仅限于传统的数据存储领域,还可应用于户外运动、家庭生活等领域,例如为户外运动爱好者提供便携的电力支持,以及为家庭提供可靠的电力供应。   光存储具有寿命长、容量大、查询检索便捷、能耗低、安全性高、成本低等优点。光存储介质通常对环境因素(如温度、湿度和磁场)的影响较小,数据的长期稳定性更好,因此不像硬盘那样容易因物理损坏或磁场干扰而丧失数据。光存储还具备耐高低温、不怕受潮,抗摔、抗振、抗压、防尘等优点,因此在户外运动、家庭生活等领域也有广泛的应用,例如为户外运动爱好者提供便携的电力支持,以及为家庭提供可靠的电力供应。   尽管光存储有许多优点,但随着云存储和SSD等技术的发展,其在日常数据存储中的普及度已经有所下降。光存储的读写速度通常低于SSD,且容量与便携性方面也逐渐落后于USB闪存驱动器和外部硬盘。然而,对于特定的应用场景,如长期数据存档、媒体分发,光存储仍然是一个值得考虑的选择。   磁性存储 图1 光存储的优点  

2.3 半导体存储

半导体存储具有集成度高、功耗小、可靠性高、价格低、体积小、外围电路简单、读写速度快、便于自动化批量生产等优点,主要用于内存。   相对于磁存储和光存储,半导体存储如闪存和SSD的优点在于其耐用性、便携性以及快速的数据访问。这些存储设备没有机械部件,因此更加可靠且不易损坏。不过,半导体存储的成本相对较高,尤其在存储容量上,其单位价格通常高于磁存储和光存储。此外,虽然半导体存储的读写速度很快,但存储密度通常低于磁存储技术,如HDD。随着技术的发展,半导体存储的存储密度正逐渐提高,成本也在逐步降低。   磁性存储 图2 半导体存储技术的分类   从其制造工艺和功能上分,ROM有五种类型,其中,掩膜编程的只读存储器(Mask-programmed ROM,MROM)是直接用掩膜工艺,把信息”刻“进存储器里,用户无法更改,适合早期的批量生产。可擦除可编程的只读存储器(Erasable Programmable ROM,EPROM)是一种以读为主的可读写的存储器,可多次编程;EPROM比MROM和可编程的只读存储器(Programmable ROM,PROM)更方便、灵活,但EPROM速度较慢。   磁性存储 图4 ROM种类   可电擦除可编程的只读存储器(Electrically Erasable Programmable ROM,EEPROM)是一种支持电可擦除和即插即用的非易失性存储器,具有体积小、接口简单、数据保存可靠、可在线改写、功耗低等特点,可用于计算机启动时的BIOS芯片,并广泛应用于对数据存储安全性及可靠性要求高的应用场合,如门禁考勤系统,非接触式智能卡,税控收款机,预付费电度表以及家电遥控器等应用场合;EEPROM相比EPROM价格贵,集成度低,但成本较高、可靠性较低。   Flash Memory是一种高密度、非易失性的读/写半导体存储器,可在线系统擦除与编程,其兼并EEPROM和随机存取存储器(Random Access Memory,RAM)的特点,是一种全新的存储结构,俗称快闪存储器/闪存;与EEPROM类似,闪存使用电可擦技术,可以将内容在一秒至几秒内被擦除,速度比EPROM快,但不提供字节级的擦除;另外,闪存每位只使用一个晶体管,因此能获得与EPROM一样的高密度;同时,在正常使用情况下,其浮置栅存电子可保存100年而不丢失。表1为各类非易失性存储器参数间的对比。

表1 各类非易失性存储器对比

磁性存储SRAM(静态随机存储器)速度快、使用简单、不需刷新、静态功耗极低,常用作缓冲存储器(Cache)。DRAM(动态随机存储器)利用电容存储电荷的原理保存信息,电路简单,集成度高;因需刷新,存取速度较SRAM慢,所以在计算机中,DRAM常用于主存储器。但由于DRAM存储单元的结构简单,所用元件少,集成度高,功耗低,所以已成为大容量RAM的主流产品。   表2 DRAM和SRAM对比 磁性存储闪存的质量由页数量、页容量、读取性能、写入性能、块容量、I/O位宽、频率和制造工艺等决定,同时正朝大容量、低功耗、低成本的方向发展。SSD是以NAND闪存介质为主的一种存储产品,现已广泛应用于笔记本电脑、台式电脑、移动终端、服务器和数据中心等场合,在很多应用场合可以直接替换HDD。   由于SSD体积更小、速度更快、安全性更强,SSD比HDD更加适合应用于移动存储方面。相比DRAM存储芯片,SSD采用的NAND闪存更具有成本优势。与HDD硬盘相比,SSD具有传输速率高、延迟低、能耗低、噪声低、抗震等优良特性。   NOR Flash属于代码型闪存芯片,其主要特点是芯片内执行,即应用程序不必再把代码读至RAM中,而可直接在Flash内运行;所以,NOR Flash适合用来存储代码及部分数据,可靠性高、读取速度快,在中低容量应用时具备性能和成本上的优势,但NOR Flash的写入和擦除速度很慢,且体积是NAND Flash的两倍,所以用途受到了很多限制,市场占比较低。   NAND Flash被认为是NOR Flash的理想替代者,NAND Flash的结构简单,主要由 NAND 芯片、电容器、电阻器等元件组成;NAND Flash属于数据型闪存芯片,相较于传统的闪存存储器具有更高的存储密度、更低的功耗和更长的寿命;可实现大容量存储,其写入和擦除速度也相对较快,写周期比NOR Flash短90%。   此外,NAND的存储单元仅为NOR的一半,在更小的存储空间中NAND获得了更好的性能。NAND Flash被广泛用于嵌入式多媒体卡(eMMC/EMCP)、通用闪存存储 (UFS)、U盘、SSD等市场。表3 是NOR Flash与NAND Flash各参数间的对比:

表3 NOR Flash与NAND Flash对比 磁性存储闪存具有非易失性,即断电数据也不会丢失;功耗小,寿命长,掉电保存数据大于10年,可擦写次数达10万次以上;密度大,目前1GB容量的闪存已标准化,8GB容量的闪存也即将推出;延迟低,噪声低;传输速率高,抗震动、抗冲击、温度适应范围宽。闪存的缺点是写入速度较慢,写入每页的典型时间为200μs,平均每写1个字节约需400ns,即约20MB/s,使用过程中还可能出现无效块等。   磁性存储 图4 闪存优缺点   表4 主流存储技术与新型存储技术对比

磁性存储

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数据存储技术进化趋势

2030年人类将进入YB数据时代,数据量是2020年的23倍,全球连接数2000亿,通用算力将增长10倍、人工智能算力将增长500倍。在存储容量方面,目前一些高端闪存卡的存储容量已经达到了1TB,相当于是32年前的10TB,而一些SSD的存储容量更是高达数TB。在读写速度方面,目前一些高端的UHS-II SD卡可以提供高达300MB/s的读取速度和260MB/s的写入速度。此外,一些NVMe SSD的读写速度也可以达到数GB/s。   NAND Flash在闪存市场中具有举足轻重的地位,随着NAND Flash存储原厂的产品生产工艺不断更新发展,存储晶圆工艺制程、电子单元密度、产品堆叠层数等经历了较大的技术更新,市场存储密度的供给呈现出较快的增长速度。根据中商产业研究院整理的数据显示,全球NAND Flash存储容量一直保持增长,从2017年的1620亿GB增长至2020年的5300亿GB,年均复合增长率达35.38%。  

磁性存储

图5 2017-2022年全球NAND Flash存储容量增长情况

(数据来源:中商情报网)

”信息爆炸“时代对数据存力带来了巨大考验,数据存力整体上面临容量逐渐供应短缺;利用效率低下,资源浪费;存储设施能耗压力大;分布区域不均匀,发展不平衡等难题。因此,未来存储将会以非结构化数据为主,SSD闪存为主要存储介质,并向分布式存储架构、云存储、DNA存储、纳米存储、存算一体等方向发展。   近年来,随着云计算与人工智能应用的快速发展,数据中心的流量不断扩大,数据处理速度慢和能耗高的问题逐渐成为束缚计算性能发展的障碍。相对于CPU性能的提升,内存的进步则相对缓慢,从而导致存储速度严重滞后,即“内存墙”问题。随着多核处理器和大数据应用的出现,数据搬运的需求大幅增加,为了解决“内存墙”问题,行业内如SK海力士、美光科技等企业寄望于提高存储器带宽,因此高带宽存储技术(High-Bandwidth Memory,HBM)应运而生。   不同于传统的2D DRAM,HBM技术采用3D堆叠的DRAM芯片,通过硅通孔(TSV)技术实现多层内存的垂直互连,并且使用系统级封装(SIP)技术将GPU和多个DRAM芯片紧密集成,这种设计方式极大提高了数据传输速度,并能在较小的物理空间内提供更大的存储容量和更高的带宽,同时实现更低的延迟和功耗。正因为如此,HBM技术被认为是数据中心等高性能计算应用的理想内存解决方案。   5

结语

展望未来,数据存储技术将面临更多的挑战和机遇。随着数据量的爆炸式增长,如何提高存储效率、降低存储成本、满足多元化的数据需求,将是存储技术未来发展的重要课题。同时,随着新技术的不断涌现,如分布式存储架构、云存储、DNA存储、纳米存储和存算一体等新兴方向也将为存储技术的发展带来无限可能。  

审核编辑:黄飞

 

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