Intel和ASML宣布全球第一台High-NA光刻机“首光”

荷兰ASML是世界上最先进的光刻设备制造商，最近该公司启动了第一台high-NA(numerical aperture,数值孔径)设备，以确保其正常工作。Intel也加入了这一行列，因为它是世界上第一家订购该设备的代工厂。

Intel和ASML宣布全球第一台High-NA光刻机“首光”这一事件，是半导体制造领域的一次重大突破。High-NA光刻机，即高数值孔径极紫外（EUV）光刻机，是目前半导体制造中最重要的工具之一。它能够实现更高的分辨率和更小的线宽，从而为生产更高性能的芯片打下基础。

据报道，ASML经过十年的研发，于2023年12月正式向Intel交付了首台High-NA EUV光刻系统——TWINSCAN EXE:5000的首批模块。这一系统的分辨率直达8nm，相比之前的DUV系统，其在光的波长参数上进行了重大调整，使用13.5nm光，而最高分辨率DUV系统则使用193nm光。此外，这台机器的尺寸庞大，组装完成后高达3层楼高，需要建造新的厂房来容纳。

在Intel位于美国俄勒冈州的D1X工厂内，ASML工程团队完成了该光刻机的安装调试工作。相关组件通过空运从荷兰运到美国，以缩短交货时间。这一光刻机的价值在3亿至4亿美元之间，被ASML公司宣称为芯片制造商参与人工智能热潮的“必备品”。

据了解，TWINSCAN EXE:5000光刻机将应用在Intel的18A制造工艺中，即1.8纳米级别。它的应用被认为是推进摩尔定律的关键步骤，标志着摩尔定律向前迈进了一大步。然而，根据ASML的路线图，这一代的High-NA EUV光刻机或许主要是被晶圆制造商用于相关实验与测试，以便公司更好地了解High-NA EUV设备的使用，获得宝贵经验。实际量产可能会依赖于计划在2024年底出货的TWINSCAN EXE:5200。

总的来说，Intel和ASML宣布全球第一台High-NA光刻机“首光”，无疑是半导体行业的一次重大进步。它不仅展示了ASML在光刻技术领域的领先地位，也预示着半导体制造工艺将迈向新的高度。然而，如何充分利用这一技术，并将其应用于实际生产中，还需要进一步的研究和实验。我们期待看到更多关于这一技术的后续报道和应用进展。