盛美上海起诉前研发人员蒋某某及江苏芯梦设备侵权

　　在当今市场竞争日趋激烈之际，商业秘密已成为企业发展的关键要素。如无数案例所示，侵犯商业秘密不仅会给企业造成巨额损失，尤其对于资金与技术密集型的半导体行业影响更为严重。

　　据集微网报道，2023年10月，盛美上海针对前研发人员蒋某某及其所在的江苏芯梦半导体设备有限公司侵犯其商业秘密一事，向苏州市中级人民法院提起诉讼，请求被告停止侵权并赔偿经济损失。目前此案仍在审理之中。

　　盛美上海创立于2005年，专注于半导体清洗设备的研发、设计、制造和销售，被誉为上海市政府科教兴市项目重点引进的集成电路装备企业，也是国内半导体清洗设备领域的领军者之一。

　　据悉，该公司自成立以来便高度重视知识产权和人才培养，在知识产权方面，盛美上海通过自主研发构建了完备的知识产权体系，凭借深厚的技术和工艺积淀以及差异化的自主创新发展策略，不断推出新品、新技术。

　　其中，自主研发的SAPS/TEBO兆声波清洗技术和Tahoe单片槽式组合清洗等技术，使其成为国内少数具备全球领先技术实力的设备制造商之一。

　　此外，盛美上海还拥有多项自主知识产权的产品，涵盖单晶圆及槽式湿法清洗设备、电镀设备、无应力抛光设备、立式炉管设备及PECVD设备等。

　　在人才培养方面，盛美上海从创业初期起便积极招揽国内外知名高校的优秀应届生，并持续挖掘更多优秀人才，提供丰厚的薪资福利（包括合理薪酬及股票期权）和重要职位。

　　得益于持续的投入，盛美上海现已拥有数百项专利及众多技术秘密，形成了对创新成果的协同保护，从而在半导体设备市场中独树一帜。关于本案的最新进展，集微网将持续关注。