台积电重金投入R&D 专注20与14nm工艺研发

　　据报道，2012年台积电准备为其R&D投入13亿美元，作为本年度资本支出预算中的一部分。

　　去年，台积电的R&D预算首次突破10亿美元。而今年多出的30%将会用于20nm和14nm工艺研发。20nm工艺预计今年可以投产，而14nm则预计在2014年投产。

　　而非R&D方面的资本支出预算主要在扩大28nm工艺产能同时引入20nm方面。

　　尽管竞争对手三星和英特尔分别有30亿美元和50亿美元的R&D投入，但他们的这部分预算是包括设备研发的，而台积电主要专注于工艺研发。

　　台积电2012年市场份额预计为170亿美元，在一定程度上与英特尔的500亿美元和三星的300亿美元相比稍逊一筹。