IMEC发布后栅极HKMG制式细节，英特尔、三星受益

　　电子发烧友网讯：纳米电子研究中心IMEC （Leuven， Belgium） 正评估用未来新型三极管替代金属栅极（RMG）技术和当前高K金属栅极 （HKMG） 架构的使用状况。

　　IMEC 研究人员正为6月12到15号在夏威夷举行的VLSI （超大规模集成电路）研讨会准备专门论文专题论述。IMEC的伙伴将从其CMOS研究项目受益，这些厂商包括Globalfoundries，英特尔，美光，日本松下，三星，台积电，尔必达，海力士，富士通和索尼。

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