半导体新闻
当今,英特尔在FinFET制程上仍属于佼佼者,其他半导体厂商正尝试开发3D FinFET与英特尔抗衡。IBM同样在FinFET制程上表现突出,这也是英特尔的主要竞争对手。
IBM有可能在今年底宣布开始投入14nm制程,得益于三星全球工厂的FinFET技术。
IBM还会透露其高密度的存储器、可扩展的功率分配以及600平方厘米的SoC。但是现在不确定的是这些技术是否依赖于三星。
从另一个角度来说,这一波竞争会直接给英特尔和IBM的客户带来利益。英特尔正努力开发其最新的FinFET设计,而IBM的两大FinFET技术选择可能更容易吸引用户。
显然,英特尔与IBM最大的战略区别是:英特尔还是一贯性的使用传统块状硅来支持其努力FinFET设计,这也可以使其在2-4年内在竞争对手中保持领先。从2011年开始,英特尔已经在22nm Ivy Bridge技术和Haswell微架构处理器中使用FinFET制程。最近英特尔还宣布其成功移植FinFET技术到14nm Broadwell微架构,这是最新的Core M处理器系列的核心。。
然而,IBM使用更昂贵的SOI基板来进行开发,这样可以简化制造过程,而且可以实现芯片的低功耗性能。
有消息称,英特尔还将揭秘其加工“秘方”,包括参杂技术。
IBM另辟蹊径
IBM将正式公布利用SOI制造14nm FinFET的方法,并且此款14nm FinFET比22nm的处理速度快25%。
与此同时,IBM也会展示全球最小、最密集的DRAM单元,仅仅只有0.0174平方厘米大小。IBM还拥有独有的制程,可同时实现低功耗和高速运行功能。该公司还会在此次竞争中大肆炫耀其15级铜互连技术来促进功率分配,这些都会成为IBM与英特尔之争的有力因素。
此次PK,英特尔被称以第二代14nm FinFET晶体管作为代表,IBM则以高性能14nm SOI FinFET CMOS技术作为筹码。
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