以MSP430F149单片机为控制核心的的点光源跟踪系统设计

1 系统方案论证

1.1 系统各模块方案的选择与论证

（1）电机驱动模块。采用L298驱动芯片组成驱动电路，可以通过控制中心输出的高低电平对电动机的方向进行控制，并且可以通过PWM波直接控制电动机的速度。电路较为简 ～单，容易实现，驱动能力和抗干扰能力强，性价比高。

（2）LED灯电流调节与光源检测模块。发射端通过直流稳压电源来点亮白光LED，通过调节白光LED两端的电压来调节电流从而调节亮度，接收端采用多个光敏电阻，通过光敏电阻阻值的变化来判断光源的位置。

（3）LED电流检测模块。在LED的下端串联一0.1Ω的电阻，电阻的另一端接地，采用OPA335精密放大器对0.1 Ω电阻的压降进行放大，再通过AD采样处理，从而测量计算出流过LED的电流。

1.2 系统组成

本系统采用两片TI公司的MSP430F149单片机分别作为发送部分和接受部分的控制核心，完成信号发送和接收、电流检测、控制电机、键盘输入及液晶显示等功能。MSP430F149单片机内部资源丰富，集成了A／D模块，无需扩展引脚，电路设计和制作简单，功耗低。

外围电路模块包括：电机驱动模块、LED控制模块、电流检测模块、光信号的发射与接收模块和液晶显示模块。

2 理论分析与硬件电路设计

2.1 LED控制和电流检测电路

LED通过调节LED两端的电压，来改变电流，从而实现亮度的调节，可将LED控制电路采用分压的方式，将LED与一个1OΩ的电阻串联来对LED分压，通过调节串联电路电压来调节电流，控制LED的亮度。经过计算：

即10Ω 电阻的功率最大值将近1.6W。故10Ω 电阻采用3W的功率电阻。

电压调整采用LM317，其输出电压范围为：

即可调范围为4.0 V到8.4V，换算成电流为：

即电流范围可达80～440 mA，可满足在150-350 mA的范围内调节要求。

电流检测模块通过测量电路中已知电阻两端电压来换算出电流，由于用来测量电压的电阻阻值要尽量小，故选择0.1Ω 的功率电阻，并联的放大器等效电阻可忽略不记，经过计算，0.1 Ω 电阻两端的压降在0.008 V～0.042 V之间，电压值非常小，需要经过一级电压放大电路。由于单片机的AD采样内部参考电压最大值为3.3 V，因此放大后电压值3.3V以内。

电压放大采用TI公司的轨到轨运算放大器0PA335，该运放具有良好的电压放大性能，单电源供电，放大直流信号没有衰减，连接为同相比例放大。0PA335的输出接单片机的模拟信号输入端P6.0，进行AD采样。电路如图2所示。

图2 电流调节与检测电路

2.3 电机驱动电路

由于采用步进减速电机，电流较大。

经过测量，在7V电压供电时，电机的电流为1.4A，在5v供电时，电流为0.9 A，系统采用7.2 V的干电池供电，电机驱动芯片需要能够承受较大的电流。故采用L298作为电机驱动，能承受足够大的电流。

2.4 检测光源电路

检测光源电路的主要原理是通过检测到光敏电阻的电阻变化，从而引起电压的变化，单片机通过识别不同的电压信号来控制电机的转动。本设计还采用套黑管的方法提高精确度。

将LM324用做电压比较器，LM324的反向输入端通过两个相等的电阻将电源的电压分半，作为反向输入端的输入电压，在同向输入端同样采用分压的原理，上端连接光敏电阻，下端接一个100K的滑动变阻器来调节光敏电阻的灵敏度。电路如图3所示。

图3 检测光源电路

3 控制算法与软件设计

系统软件主要分为3个部分：检测光源、检测显示电流、步进电机控制。算法设计也围绕这3个方面展开。

3.1 控制算法

水平方向用4个光敏电阻来寻找和跟踪光源，将光敏电阻接入比较器串联滑动变阻器，接在LM324输入端，单片机通过电平变化来判断光源的具体位置。

在没有检测到光时，两个比较器都输出低电平，当有一个检测到光时，与此相连的比较器输出变为高电平，当两个比较器的输出都为高电平时，说明此时光源在两个光敏电阻之间，此时已检测到光源的中心，控制电机停止。

在光源跟踪时，通过判断水平方向两个比较器的状态来实现。当左边的比较器输出为高电平，右边输出低电平时，说明光源左移，控制步进电机左移。同理可控制电机右移。当两个比较器输出都为高电平时，说明光源在中心，不用移动。当两个比较器都输出低电平时，都没检测到光源，此时重新扫描。

由于要实现激光笔对准光源时，将光源支架沿着直线LM平稳缓慢（15秒内）移动60 cm，激光笔能够连续跟踪指向光源，而系统采用的减速步进电机可将一个圆周细分为4096步，每个脉冲走的距离约为：

每个脉冲步进3.07 mm，可实现对光源的连续跟踪。要实现将光源支架沿着直线LM平稳缓慢（15秒内）移动60cm，激光笔能够连续跟踪指向光源，当沿直线移动时，光源的竖直高度将发生变化，竖直方向检测方式类似于水平方向检测跟踪，因而可实现整个平面内跟踪。

3.2软件设计流程图

图4 单片机2流程图

图5 单片机1流程图