意法半导体32nm元件库采用Mentor Graphics Eldo仿真器

        Mentor Graphics公司（Mentor Graphics Corporation）日前宣布意法半导体公司（STMicroelectronics），作为微电子应用领域半导体一体化解决方案的全球主导厂商，采用Mentor Graphics Eldo电路仿真器来进行其首次CMOS 32nm元件库特性分析。在数字和模拟IP特性分析的先进电路仿真技术领域，两家公司是长期的合作伙伴。这一合作关系近日再次向前迈出了一步，成功地对特性分析流程进行了优化处理，使之与先进的CMOS 32nm high-K 金属栅低功率ISDA（International Semiconductor Development Alliance，国际半导体研发联盟）流程更为匹配。

   “意法半导体公司是提供CMOS 32nm设计解决方案的领导厂商，在不牺牲性能、质量和硅相关性的前提下，对低功率设计的设计效率进行优化。为实现这一目标，我们已与长期合作伙伴Mentor Graphics公司一起建立了一个可靠的生态系统。我们两家公司通力协作，为我们全球各地的设计团队研发出更完善的元件库设计和特性分析解决方案，”意法半导体公司CMOS元件库技术研发部主任Gerard Mas表示。


    因为低功率设计技术，深亚微米器件的复杂性所要求的CAD工具的多样性、以及为元件库特性分析收集数据进行的仿真数量都可能相当惊人。同时，为求每次仿真都达到高度的精确，设计工程师需要运用最先进的MOSFET模型（PSP）和最精确的寄生网络描述。要保持设计效率，必须对技术节点的整个仿真系统进行优化。Eldo仿真器能够处理这种模型复杂化以及准确度要求引起的仿真量的巨大增加，仿真时间甚至达到或接近与前几代的设计。


     鉴于整个特性分析流程对大型CPU Farm上的高效负荷分配和平衡有所要求，意法半导体和Mentor Graphics还联合推出了一项合作项目，让特性分析流程尽可能的流畅和稳固。


   “考虑到数据量，人工检测的方法行不通。整个特性分析过程必须是‘按键即可’的自动化流程，即使这些先进技术节点和联合模型让每一次独立仿真都成为一次挑战。为了实现这一目标，我们已经研发出相当成熟的基础设备。为了让我们能够达到预期的效率水平，Mentor Graphics展现了强大的反应能力、资源和工程投入度。”意法半导体公司CMOS标准元件库部门经理Laurent Bergher表示。


     切实可行的解决方案如今已经在逻辑库和模拟库（包括ADCs、DACs、PLLs、Oscilatters等）的对模拟精确性和噪声分析有极高要求的领域加以应用。意法半导体与Mentor Graphics的紧密合作还使得由意法半导体流程可靠性专家研发的尖端老化模型通过广泛使用的Eldo UDRM（User Defined Reliability Modeling，用户定义的可靠性模型）API移植到Eldo仿真器中。


    “Mentor Graphics和意法半导体的紧密协作对两家公司的战略都具有十分重要的意义。意法半导体是全球领先的模拟和混合信号设计厂商，双方的合作帮助Mentor Graphics有能力在CMOS 32nm元件库特性分析生产平准化环境等高端领域向客户提供解决方案，” Mentor Graphics副总裁兼DSM部总经理Robert Hum表示。
 

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