电子常识
晶圆是微电子产业的行业术语之一。
高纯度的硅(纯度,99.99.。。。.99,小数点后面9-11个9),一般被做成直径6英寸,8英寸或者12英寸的圆柱形棒。
集成电路生产企业把这些硅棒用激光切割成极薄的硅片(圆形),然后在上面用光学和化学蚀刻的方法把电路、电子元器件做上去,做好之后的每片硅片上有大量的一片片的半导体芯片(小规模电路或者三极管的话,每片上可以有3000-5000片),这些加工好的圆形硅片就是晶圆。
之后它们将被送到半导体封装工厂进行封装,之后的成品就是我们看到的塑封集成电路或者三极管了。
因为制作工艺决定了它是圆形的。因为提纯过后的高纯度多晶硅是在一个子晶(seed)上旋转生长出来的。多晶硅被融化后放入一个坩埚(Quartz Crucible)中,再将子晶放入坩埚中匀速转动并且向上提拉,则熔融的硅会沿着子晶向长成一个圆柱体的硅锭(ingot)。这种方法就是现在一直在用的CZ法(Czochralski),也叫单晶直拉法。如下图:
然后硅锭在经过金刚线切割变成硅片:
在经过打磨等等处理后就可以进行后续的工序了(CPU制造的那些事之一:i7和i5其实是孪生兄弟!?)
单晶直拉法工艺中的旋转提拉决定了硅锭的圆柱型,从而决定晶圆是圆形的。
为什么后来又不圆了呢?
那为啥后来又不圆了呢?其实这个中间有个过程掠过了,那就是Flat/Notch Grinning。
它在硅锭做出来后就要进行了。在200mm以下的硅锭上是切割一个平角,叫做Flat。在200mm(含)以上硅锭上,为了减少浪费,只裁剪个圆形小口,叫做Notch(参考资料2)。在切片后晶圆就变成了这样:
如果你仔细看我的第一个图,你也会发现它其实是有缺一个小豁口的。
为什么要这样做呢?这不是浪费吗?其实,这个小豁口因为太靠近边缘而且很小,在制作Die时是注定没有用的,这样做可以帮助后续工序确定Wafer摆放位置,为了定位,也标明了单晶生长的晶向。定位设备可以是这样:
这样切割啊,测试啊都比较方便。
1、表面清洗
2、初次氧化
3、CVD(Chemical Vapor deposition) 法沉积一层Si3N4 (Hot CVD 或LPCVD) 。
(1)常压CVD (Normal Pressure CVD)
(2)低压CVD (Low Pressure CVD)
(3)热CVD (Hot CVD)/(thermal CVD)
(4)电浆增强CVD (Plasma Enhanced CVD)
(5)MOCVD (Metal Organic CVD) & 分子磊晶成长(Molecular Beam Epitaxy)
(6)外延生长法(LPE)
4、涂敷光刻胶
(1)光刻胶的涂敷
(2)预烘(pre bake)
(3)曝光
(4)显影
(5)后烘(post bake)
(6)腐蚀(etching)
(7)光刻胶的去除
5、此处用干法氧化法将氮化硅去除
6 、离子布植将硼离子(B+3) 透过SiO2 膜注入衬底,形成P 型阱
7、去除光刻胶,放高温炉中进行退火处理8、用热磷酸去除氮化硅层,掺杂磷(P+5) 离子,形成N 型阱
9、退火处理,然后用HF 去除SiO2 层
10、干法氧化法生成一层SiO2 层,然后LPCVD 沉积一层氮化硅
11、利用光刻技术和离子刻蚀技术,保留下栅隔离层上面的氮化硅层
12、湿法氧化,生长未有氮化硅保护的SiO2 层,形成PN 之间的隔离区
13、热磷酸去除氮化硅,然后用HF 溶液去除栅隔离层位置的SiO2 ,并重新生成品质更好的SiO2 薄膜, 作为栅极氧化层。
14、LPCVD 沉积多晶硅层,然后涂敷光阻进行光刻,以及等离子蚀刻技术,栅极结构,并氧化生成SiO2 保护层。
15、表面涂敷光阻,去除P 阱区的光阻,注入砷(As) 离子,形成NMOS 的源漏极。用同样的方法,在N 阱区,注入B 离子形成PMOS 的源漏极。
16、利用PECVD 沉积一层无掺杂氧化层,保护元件,并进行退火处理。
17、沉积掺杂硼磷的氧化层18、濺镀第一层金属
(1)薄膜的沉积方法根据其用途的不同而不同,厚度通常小于1um 。
(2)真空蒸发法(Evaporation Deposition )
(3)溅镀(Sputtering Deposition )
19、光刻技术定出VIA 孔洞,沉积第二层金属,并刻蚀出连线结构。然后,用PECVD 法氧化层和氮化硅保护层。
20、光刻和离子刻蚀,定出PAD 位置
21、最后进行退火处理,以保证整个Chip 的完整和连线的连接性
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