晶圆是什么_晶圆为什么是圆的_晶圆制造工艺

电子常识

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  晶圆是什么

  晶圆是微电子产业的行业术语之一。

  高纯度的硅(纯度,99.99.。。。.99,小数点后面9-11个9),一般被做成直径6英寸,8英寸或者12英寸的圆柱形棒。

  集成电路生产企业把这些硅棒用激光切割成极薄的硅片(圆形),然后在上面用光学和化学蚀刻的方法把电路、电子元器件做上去,做好之后的每片硅片上有大量的一片片的半导体芯片(小规模电路或者三极管的话,每片上可以有3000-5000片),这些加工好的圆形硅片就是晶圆。

  之后它们将被送到半导体封装工厂进行封装,之后的成品就是我们看到的塑封集成电路或者三极管了。

  晶圆为什么是圆的

  因为制作工艺决定了它是圆形的。因为提纯过后的高纯度多晶硅是在一个子晶(seed)上旋转生长出来的。多晶硅被融化后放入一个坩埚(Quartz Crucible)中,再将子晶放入坩埚中匀速转动并且向上提拉,则熔融的硅会沿着子晶向长成一个圆柱体的硅锭(ingot)。这种方法就是现在一直在用的CZ法(Czochralski),也叫单晶直拉法。如下图:

  

  然后硅锭在经过金刚线切割变成硅片:

  

  在经过打磨等等处理后就可以进行后续的工序了(CPU制造的那些事之一:i7和i5其实是孪生兄弟!?)

  单晶直拉法工艺中的旋转提拉决定了硅锭的圆柱型,从而决定晶圆是圆形的。

  为什么后来又不圆了呢?

  那为啥后来又不圆了呢?其实这个中间有个过程掠过了,那就是Flat/Notch Grinning。

  

  它在硅锭做出来后就要进行了。在200mm以下的硅锭上是切割一个平角,叫做Flat。在200mm(含)以上硅锭上,为了减少浪费,只裁剪个圆形小口,叫做Notch(参考资料2)。在切片后晶圆就变成了这样:

  

  如果你仔细看我的第一个图,你也会发现它其实是有缺一个小豁口的。

  为什么要这样做呢?这不是浪费吗?其实,这个小豁口因为太靠近边缘而且很小,在制作Die时是注定没有用的,这样做可以帮助后续工序确定Wafer摆放位置,为了定位,也标明了单晶生长的晶向。定位设备可以是这样:

  

  这样切割啊,测试啊都比较方便。

  晶圆制造工艺

  1、表面清洗

  2、初次氧化

  3、CVD(Chemical Vapor deposition) 法沉积一层Si3N4 (Hot CVD 或LPCVD) 。

  (1)常压CVD (Normal Pressure CVD)

  (2)低压CVD (Low Pressure CVD)

  (3)热CVD (Hot CVD)/(thermal CVD)

  (4)电浆增强CVD (Plasma Enhanced CVD)

  (5)MOCVD (Metal Organic CVD) & 分子磊晶成长(Molecular Beam Epitaxy)

  (6)外延生长法(LPE)

  4、涂敷光刻胶

  (1)光刻胶的涂敷

  (2)预烘(pre bake)

  (3)曝光

  (4)显影

  (5)后烘(post bake)

  (6)腐蚀(etching)

  (7)光刻胶的去除

  5、此处用干法氧化法将氮化硅去除

  6 、离子布植将硼离子(B+3) 透过SiO2 膜注入衬底,形成P 型阱

  7、去除光刻胶,放高温炉中进行退火处理8、用热磷酸去除氮化硅层,掺杂磷(P+5) 离子,形成N 型阱

  9、退火处理,然后用HF 去除SiO2 层

  10、干法氧化法生成一层SiO2 层,然后LPCVD 沉积一层氮化硅

  11、利用光刻技术和离子刻蚀技术,保留下栅隔离层上面的氮化硅层

  12、湿法氧化,生长未有氮化硅保护的SiO2 层,形成PN 之间的隔离区

  13、热磷酸去除氮化硅,然后用HF 溶液去除栅隔离层位置的SiO2 ,并重新生成品质更好的SiO2 薄膜, 作为栅极氧化层。

  14、LPCVD 沉积多晶硅层,然后涂敷光阻进行光刻,以及等离子蚀刻技术,栅极结构,并氧化生成SiO2 保护层。

  15、表面涂敷光阻,去除P 阱区的光阻,注入砷(As) 离子,形成NMOS 的源漏极。用同样的方法,在N 阱区,注入B 离子形成PMOS 的源漏极。

  16、利用PECVD 沉积一层无掺杂氧化层,保护元件,并进行退火处理。

  17、沉积掺杂硼磷的氧化层18、濺镀第一层金属

  (1)薄膜的沉积方法根据其用途的不同而不同,厚度通常小于1um 。

  (2)真空蒸发法(Evaporation Deposition )

  (3)溅镀(Sputtering Deposition )

  19、光刻技术定出VIA 孔洞,沉积第二层金属,并刻蚀出连线结构。然后,用PECVD 法氧化层和氮化硅保护层。

  20、光刻和离子刻蚀,定出PAD 位置

  21、最后进行退火处理,以保证整个Chip 的完整和连线的连接性

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