Aston Impact 高灵敏度质谱分析仪 CVD 清洗终点优化

描述

上海伯东日本 Atonarp Aston Impact 高灵敏度质谱分析仪, 基于四级杆的质量分离, Aston 质谱分析仪设计紧凑, 适用于气体分析和过程气体监测, 满足半导体工艺过程中,  沉积, 刻蚀, 光刻等气体分析.

Aston 质谱分析仪 CVD 清洗终点优化
选择 clean 的反应物或者生成物, 使用 Aston 相对定量分析其中的气体成分, 可以动态判断 CVD 清洁过程的刻蚀终点的时间. 不论是气体的节省和工艺时间的节省都可以最大程度的增大产能.
 

半导体Aston 质谱分析仪



Aston 质谱分析仪与腔室连接
 

半导体Aston 质谱分析仪


 


Aston Impact 高灵敏度质谱分析仪基本参数

型号

Aston Impact-300

Aston Impact-300DP

质量分离

四级杆

离子发生器

电子电离 EI

电子电离 EI

检测器

法拉第杯 / 扫描电镜

真空系统

涡轮分子泵

涡轮分子泵
隔膜泵

质量范围

2-285 amu

检测限

100 ppb

精度

0.5%

可重复性

+/-0.5% over 24 Hr

耐腐蚀性气体

轻微

耐副产物气体

高速以太网

气体压力覆盖面广


上海伯东代理日本 Atonarp 过程控制质谱仪 Aston™, 通过使用分子传感技术, 提供半导体制程中  ALD, CVD, 蚀刻, ALE 和腔室在大批量生产中的气体侦测分析, 实现尾气在线监控, 诊断, 为半导体过程控制提供解决方案, 提高半导体制造工艺的产量, 吞吐量和效率, 在现有生产工艺工具上加装 Aston, 可在短时间内实现晶圆更高产量! 

若您需要进一步的了解 Atonarp  Aston™ 在线质谱仪详细信息或讨论, 
请联络上海伯东: 叶女士  107

现部分品牌诚招合作代理商, 有意向者欢迎联络上海伯东 叶女士
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