效率超97.5%!由高功率 GaNSafe 和第三代快速碳化硅MOSFETs 打造的下一代电源方案,完美适配AI和超大规模数据中心
唯一全面专注的下一代功率半导体公司及下一代氮化镓(GaN)功率芯片和碳化硅(SiC)技术领导者——纳微半导体 (纳斯达克股票代码: NVTS) 今日发布全球首款8.5kW AI数据中心服务器电源,其采用了氮化镓和碳化硅技术的混合设计,实现了>97.5%的超高效率,完美适配AI和超大规模数据中心。
这款针对AI数据中心优化的输出电压为54V的服务器电源,符合开放计算项目(OCP)和开放机架v3(ORv3)规范,其三相交错PFC和LLC拓扑结构中采用了高功率GaNSafe氮化镓功率芯片和第三代快速碳化硅 MOSFETs,以确保实现最高效率和最佳性能,同时将无源器件的数量降至最低。
与竞争对手使用的两相拓扑相比,该电源所采用的三相拓扑结构,能为PFC和LLC带来行业内最低的纹波电流和EMI。此外,与最接近的竞品相比,该电源的氮化镓和碳化硅器件数量要少25%,进而降低了整体成本。该电源的输入电压范围为180至264 Vac,待机输出电压为12V,工作温度范围为-5°C至45°C,在8.5kW时的保持时间为10ms,通过扩展器可达到20ms。
该电源的三相LLC拓扑结构由高功率GaNSafe氮化镓功率芯片驱动,该芯片专为要求严苛的高功率应用(如AI数据中心和工业市场)而设计打造。GaNSafe作为纳微的第四代氮化镓产品集成了控制、驱动、传感和关键保护功能,具备前所未有的可靠性和鲁棒性。
作为全球氮化镓功率芯片的安全巅峰,GaNSafe具有短路保护(最大延迟350ns)、所有引脚均有2kV ESD保护、消除负栅极驱动和可编程的斜率控制。所有这些功能都可通过芯片4个引脚控制,使得封装可以像一个离散的氮化镓FET一样被处理,不需要额外的VCC引脚、纳微的650V GaNSafe目前提供TOLL和TOLT两种封装,RDS(ON)MAX范围从25到98mΩ,可应用于1kW 到22kW的大功率应用场景。
该电源的三相交错CCM TP-PFC由第三代快速碳化硅MOSFETs驱动,其采用了“沟槽辅助平面”技术。该技术是GeneSiC超过20年的碳化硅行业深耕的匠心之作,可提供全球领先的温度性能,具备低温升运行、快速开关和卓越的鲁棒性的特点,以加速电动汽车的充电速度或为AI数据中心增进3倍功率。
纳微半导体
首席执行官兼联合创始人
Gene Sheridan
“纳微完整的氮化镓和碳化硅产品组合,是纳微AI数据中心电源技术路线图不断发展的关键所在,刚刚发布的8.5kW电源正是最好的体现,而短期内我们也将陆续推出12kW甚至更高功率的服务器电源。
目前,全球大部分数据中心都无法满足英伟达最新Blackwell GPUs的功率需求,这暴露了整个行业生态准备不足的困境,而我们全新的8.5kW电源将是解决AI和超大规模数据中心功率需求问题的关键秘钥。”
纳微全新的8.5kW AI数据中心服务器电源将在11月8-11日于西安曲江国际会议中心举办的中国电源学会年会(详情请点击此处)和11月12-15日举办的德国慕尼黑电子展首发亮相。
关于纳微半导体
纳微半导体(纳斯达克股票代码: NVTS)是唯一一家全面专注下一代功率半导体事业的公司,于2024年迎来了成立十周年。GaNFast氮化镓功率芯片将氮化镓功率器件与驱动、控制、感应及保护集成在一起,为市场提供充电更快、功率密度更高和节能效果更好的产品。性能互补的GeneSiC碳化硅功率器件是经过优化的高功率、高电压、高可靠性碳化硅解决方案。重点市场包括移动设备、消费电子、数据中心、电动汽车、太阳能、风力、智能电网和工业市场。纳微半导体拥有超过250项已经获颁或正在申请中的专利。纳微半导体于业内率先推出唯一的氮化镓20年质保承诺,也是全球首家获得CarbonNeutral认证的半导体公司。
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