为什么干法刻蚀又叫低温等离子体刻蚀

本文介绍了为什么干法刻蚀又叫低温等离子体刻蚀。

什么是低温等离子体刻蚀，除了低温难道还有高温吗？等离子体的温度？ 

 

等离子体是物质的第四态，并不是只有半导体制造或工业领域中才会有等离子体。等离子体广泛存在于自然界中，如闪电，太阳表面都会有大量的等离子体产生，因为等离子体的实质是气体的电离。自然界的等离子体的核心温度可以达到13500℃左右，即高温等离子体，因此对于工业生产并无太大作用。   而低温等离子体是一种人造的等离子体，通过等离子体提供能量，代替热量，促进化学反应的迅速发生，一般温度从室温到几百摄氏度之间。  人造等离子体如何产生？ 

　　1，降低腔体压力。首先使用真空泵将腔体内的压力降低到一定的数值，低气压有助于控制等离子体的稳定性，使气体更容易被电离。

　　2，引入工艺气体。向腔体中引入特定的工艺气体。这些气体将成为等离子体中的主要粒子来源。

　　3，激发等离子体。采用电源将气体电离，从而形成等离子体。

　　4，关闭等离子体并恢复到大气压力。 低温等离子体在半导体制造中的用途？ 在干法刻蚀，PVD，CVD，ALD，离子注入，灰化，终点检测等都有应用。