腔室压力对刻蚀的影响

本文介绍了腔室压力对刻蚀的影响。  

腔室压力是如何调节的？对刻蚀的结果有什么影响？  

　　什么是腔室压力？ 腔室压力是指在刻蚀设备的工艺腔室内的气体压力，通常以托（Torr）或帕斯卡（Pa）为单位。

　　腔室压力由什么决定的？

　　1，气体流量越高，压力越大。

　　2，真空泵排气，泵速越高，腔室压力越低。

　　腔室压力对于刻蚀的影响

　　1，离子轰击能量。低压力，分子平均自由程大，离子的碰撞几率小，能量耗散少，故能量高。

　　2，离子与自由基的比例。低压力时，离子的比例高，有利于物理刻蚀。高压力时，自由基比例高，有利于化学刻蚀。

　　3，刻蚀均匀性。高压力时，高频碰撞会使气体流速降低，自由基更容易扩散到晶圆表面各处，包括边缘区域，整个晶圆表面接触到的反应物浓度均匀，刻蚀速率趋于一致。

　　总结 随着腔室压力的提高，刻蚀反应逐渐由物理刻蚀到物理+化学刻蚀到化学刻蚀所转变。