射频电源的功率与频率对刻蚀结果的影响

 

　　本文介绍了射频电源的功率与频率对刻蚀结果的影响。

　　干法刻蚀中，射频电源的功率与频率对刻蚀结果都有哪些影响？

　　什么是RF的功率与频率？

　　RF功率（RF Power），是指射频电源提供给等离子体系统的能量大小，用于等离子体的产生和稳定，通常以瓦特（W）为单位。

　　RF频率（RF Frequency），是指射频电场的振荡频率，通常以赫兹（Hz）为单位。常用的频率有13.56MHz，2.45GHz，27MHz，60MHz，2MHz等。

　　功率一定时，频率越高，等离子体密度越高，离子的能量越低。

　　频率对刻蚀的影响？

　　1，等离子体空间分布的均匀性

　　高频电场振荡更快，电子在一个周期内被电场加速的时间更短，因此电子能量集中在较窄的范围内，分布更均匀。

　　2，离子能量的分布

　　低频RF，如2 MHz，离子能量分布较宽，不集中。

　　高频RF，离子能量更集中。

　　3，等离子体的密度：高频RF生成更高密度的等离子体

　　4，等离子体中化学反应的主导性

　　高频RF，更多的自由基生成，促进化学刻蚀。

　　低频RF，可增强物理刻蚀。

　　5，刻蚀的选择性

　　高频RF，可提高刻蚀的化学选择性。低频RF，由于离子轰击较强，会导致选择性下降。