欧洲启动1nm及光芯片试验线

　　近日，欧洲五大顶尖研究机构——比利时imec、法国CEA-Leti、德国Fraunhofer-Gesellschaft、意大利Consiglio Nazionale delle Ricerche及西班牙ICFO齐聚一堂，共同揭幕了首批五条依据欧盟《芯片法案》设立的试验线。此举旨在缩小研究与制造之间的鸿沟，强化CMOS半导体生态系统。

　　其中，imec牵头的NanoIC试验线尤为引人注目。该项目耗资高达14亿美元，不仅将超越当前正在研发的2nm工艺技术，更将覆盖从1nm至7A(即0.7nm)的尖端工艺领域。NanoIC试验线的启动，标志着欧洲在半导体技术研发方面迈出了重要一步。

　　此外，NanoIC试验线还汇聚了众多合作伙伴，包括芬兰VTT、罗马尼亚CSSNT、爱尔兰廷德尔国家研究所，以及光刻设备巨头ASML。这些合作伙伴的加入，无疑将为NanoIC试验线提供强大的技术支持和资源保障。

　　此次五条试验线的启动，不仅体现了欧洲在半导体领域的雄心和实力，更将为全球半导体产业的发展注入新的活力和动力。未来，随着这些试验线的深入运营和发展，欧洲有望在半导体技术领域取得更多突破性成果。