普迪飞CV系统：芯片研发与生产的效能加速器，为Fab/Fabless/IDM提供定制化解决方案

在半导体产业竞争白热化的当下，时间成本与生产效率成为企业制胜的核心要素。普迪飞Characterization Vehicle System（ CV 系统）作为电学参数表征系统的领航者，率先将Short-Flow测试芯片用于开发和改进新技术与产品。CV 测试芯片已被证实，是用于表征工艺与设计之间互动关系的卓越工具，对验证和监控高良率的稳定生产而言，其重要性不言而喻。

 

强强联合 · 大幅缩短研发周期

 

CV 系统提供差异化的电学参数数据，与 Exensio 数据分析平台协同运作时，能将效能发挥至最大化。通过对数据的深度整合与分析，该系统可提供具备可行性与解决力的改进方案，有效缩短设计迭代周期，帮助产品尽快达到量产水平。同时，在量产环境下，CV 系统所提供的大量设备及工艺表征数据，结合 Exensio 平台，能够实现精准的产品性能建模，进而达成最佳的产品特定工艺设置，最大化生产过程的稳健性与可预测性。             

 

在量产环境中实现最大稳健性和可预测性

 

从数字看优势，彰显业界领先地位

 

比传统测试系统快 100 倍

密度结构高达普通设计的 30 倍

分析速度提高 10 倍

10nm 及以下的测试芯片超过 100 种

 

功能优势全方位解析

 

1.数据生成高效 · 自动衔接Exensio：

 

CV 系统由结合普迪飞专有的 pdFasTest 测试机台所设计的高密度 CV 测试芯片组合构成。其数据读取速度相较于传统测试芯片系统提升高达 100 倍，并且所产生的数据能够自动导入 Exensio 数据分析平台，实现了数据处理流程的无缝衔接，极大地提高了整体工作效率，确保企业能够迅速获取关键数据，为决策提供有力支撑。

 

 

2.数据质量高精度 · 测试与分析高时效：

 

CV 系统包含超越 PPB (十亿分之一) 的统计分辨精度、广泛全面的 Layout Pattern 实验设计(DoE)，高面积效率和自动化分析。一个全光罩测试芯片整个 Lot 的所有测试与分析可以在不到一天的时间内完成 。

 

3.100+种CV测试芯片 · 定制化解决方案：

 

CV 系统能够提供已成功应用于10nm以下工艺节点的100多个CV测试芯片。这些CV测试芯片已被证明能够代表验证和监控高产量、稳定生产所依赖的关键工艺布局相互作用，并且可根据客户需求提供定制化解决方案。

 

 

针对不同企业需求的定制化应用

 

Fabless：高效达成量产目标

 

首次正确的产品流片对业务成功至关重要。稳定的量产对于优化WIP和盈利至关重要。CV 系统为无晶圆厂提供了实现目标所需的参数洞察。

 

MPW CV：可在批量生产之前及时准确暴露功能性和参数性问题

Direct Probe CV：为您在 NPI (新产品导入)阶段快速发现功能和参数问题，加快上市速度

Scribe CV 和 CV Core IP：提供监视和快速诊断功能，以优化成本并实现高质量的批量生产

 

为Fabless定制的CV系统

 

Foundry&IDM：助力技术开发与量产爬坡

 

三十多年来，普迪飞一直致力于助力Foundries和IDM实现技术开发和量产爬坡的世界领先速率。我们的客户依赖于普迪飞提供的CV技术，在缩短处理、测试和分析时间的同时，最大化每片晶圆的学习效果。Scribe CV在量产生产期间提供全晶圆空间覆盖，并支持关键产品的定制化，实现快速新产品引入和持续产量改进所需的可观测性。

 

为Foundry和IDM定制的CV系统可大幅提升良率收敛效率

 

若您所在的企业正为设计周期冗长、良率提升困难、数据处理繁杂等问题所困扰，敬请深入了解普迪飞 CV 系统，帮助您突破发展瓶颈、实现业务飞跃。