从InFO-MS到InFO_SoW的先进封装技术

文章来源：学习那些事

原文作者：小陈婆婆

本文介绍了从InFO-MS到InFO_SoW的先进封装技术。  

在先进封装技术向超大型、晶圆级系统集成深化演进的过程中，InFO 系列（InFO-MS、InFO-3DMS）与 CoWoS-L、InFO_SoW 等技术持续突破创新。

这些技术通过工艺融合与架构重构，在高带宽存储器集成、三维异构堆叠、晶圆级系统构建等方面实现突破，既优化了成本与性能平衡，又满足了 HPC、AI 加速器等场景对高带宽、高密度互连的需求，推动封装技术向更广阔的系统级扩展维度迈进，本文分述如下：

板载存储芯片的InFO技术(InFO-MS)

3D多硅InFO(InFO-3DMS)和CoWoS-L 

晶圆上 InFO系统(InFO_SoW) 

板载存储芯片的InFO技术(InFO-MS)

在高性能计算（HPC）系统向超异构集成演进的背景下，台积电的InFO-MS（板载存储器扇出型封装）技术通过工艺创新与架构重构，为高带宽存储器（HBM）与逻辑芯片的集成提供了全新解决方案。作为InFO平台的延伸，该技术将HBM芯片直接嵌入扇出型塑封料中，再通过高密度重布线层（RDL）实现与SoC的垂直互连，其核心突破在于通过改进的RDL线宽/间距（低至2μm/2μm）与嵌入式LSI（局部硅互连）芯片，在保持成本竞争力的同时，实现了媲美CoWoS-R的电气性能与带宽密度。

从技术实现路径看，InFO-MS采用"芯片预嵌入+RDL成型"的工艺流程：HBM与SoC芯片首先在晶圆级基板上完成精准定位，随后通过光刻工艺构建多层铜重布线层，线宽/线距可压缩至2μm/2μm级别。这种设计使单块封装即可集成多颗异质芯片（如逻辑、存储模块），并通过扇出型走线实现芯片间横向互连。值得关注的是，该技术通过模块化预堆叠工艺，使存储单元可独立测试后嵌入系统，显著提升了生产良率与设计灵活性。

针对第三方HBM的兼容性挑战，InFO-MS通过自适应工艺调整与严格公差控制，解决了不同厂商存储芯片在封装过程中的对齐难题。

从成本与布局灵活性看，InFO-MS通过复用现有InFO产线设备，将高端封装的准入门槛降低了30%以上。与CoWoS-R相比，该技术无需依赖硅转接板，转而采用有机基板与扇出工艺的结合，在保持超薄封装外形（0.5mm量级）的同时，实现了光罩尺寸的突破——当前量产产品已覆盖1.7倍光罩，而大于2.5倍光罩的下一代技术正在研发中。这种"全局宽松+局部精密"的互连设计，为构建超大型HPC系统（如数据中心交换机）提供了可行性路径，满足6.4Tbit/s至25.6Tbit/s级数据交换容量对带宽与延迟的严苛要求。

随着玻璃基板替代有机基材的研究推进，InFO-MS有望在2026年实现光罩尺寸突破3倍，进一步缩小与单片SoC的性能差距。这种技术演进不仅满足了AI算力芯片、5G基站射频模块等高带宽需求应用的需求，更通过模块化设计与工艺解耦，为设计公司开辟了更灵活的制造资源调配路径，重新定义了HPC系统集成的成本与性能平衡点。

3D多硅InFO(InFO-3DMS)和CoWoS-L 

在先进封装技术向三维异构集成深度演进的背景下，InFO-3DMS（3D多硅扇出型封装）与CoWoS-L技术通过工艺融合与架构创新，重新定义了超大型系统集成的性能与成本平衡点。

作为该领域的标志性创新，InFO-3DMS将扇出型重布线层（RDL）与多类型硅芯片（包括有源逻辑、无源器件及局部硅桥）的垂直堆叠相结合，既保留了InFO工艺的高密度互连优势（线宽/间距低至2μm/2μm），又通过硅桥接片的嵌入式设计实现了局部亚微米级互连（如0.8μm节距）。这种"全局扇出+局部精密"的架构，使单块封装即可集成逻辑、存储、射频模块及无源器件，并通过分层测试流程（先验证芯粒功能，再组装至InFO基板）将良率损失控制在行业领先水平。

CoWoS-L作为CoWoS平台的延伸，通过局部硅互连（LSI）芯片与RDL层的协同设计，解决了传统硅转接板在成本与灵活性上的瓶颈。其核心突破在于将微型硅桥接片嵌入RDL层中，在特定区域实现超高密度互连（如0.5μm节距），同时保留有机基板的大面积布局优势。当与InFO-3DMS结合时，系统架构师得以在超大型封装内实现"全局宽松+局部精密"的互连设计——例如在AI加速器中，通过CoWoS-L完成HBM与计算核心的高速互连，再利用InFO-3DMS将射频模块与基带芯片集成至同一封装，从而在保持系统成本竞争力的同时，满足6.4Tbit/s至25.6Tbit/s级数据交换容量对带宽与延迟的严苛要求。

从市场定位看，上图定性比较揭示了InFO-3DMS与CoWoS-L的技术差异：前者通过扇出工艺与硅桥接片的结合，在移动终端与边缘计算场景中提供超薄封装（0.5mm量级）与低成本优势；后者则依托硅转接板的高热导率特性，在HPC领域实现更高的带宽密度（如HBM集成）。这种差异化布局使两者在AI算力芯片、数据中心交换机等场景中形成互补，共同推动摩尔定律在系统级封装（SiP）领域的延续。

晶圆上InFO系统(InFO_SoW)

在超大型系统集成向晶圆级架构演进的浪潮中，InFO_SoW（晶圆上InFO系统）技术通过全晶圆级工艺与三维异构集成，重新定义了高性能计算（HPC）与AI加速器的封装边界。

作为业界首款晶圆级系统集成方案，该技术将整个300mm晶圆转化为单一封装基板，通过超低表面粗糙度的RDL（重布线层）实现芯片间高密度互连——线宽/间距低至5μm/5μm，单层RDL即可构建两倍于传统基板的布线密度，使30mm级互连的功耗降低15%，信号完整性在28GHz频段下仍保持优异（30mm线路损耗仅0.7dB）。这种架构突破不仅消除了传统封装中基板与PCB的物理限制，更通过电源分配网络（PDN）阻抗降低97%，为超万兆级数据传输提供了零损耗的电力供应通道。

散热管理方面，InFO_SoW采用微通道液冷方案，通过2×5阵列加热器测试结构验证了其热稳定性：在7000W功率密度（1.2W/mm²）与16℃冷却水温条件下，虚拟加热器最高温度控制在90℃以下，较传统倒装芯片MCM方案降低30%热阻。值得关注的是，该技术通过晶圆级CPI（芯片-封装-相互作用）研究证明，其热机械风险显著低于先进制程的倒装芯片封装，为超大型系统在数据中心机架中的密集部署提供了可靠性保障。