
高频PCB的制造工艺涉及特殊材料选择、精密加工和严格质量控制,以下是核心流程与技术要点:
1. 基材选择与层压
高频基材:优先选用低损耗材料如罗杰斯RO4003C(介电常数3.38±0.05)或聚四氟乙烯(PTFE),其介电损耗(Df)需≤0.003。
层压工艺:采用真空层压机,每层铜箔间铺设高含胶量半固化片(≥4张,厚度0.05-0.06mm),通过阶梯升温(120℃→180℃)控制流胶量,层间对准精度需≤5μm。
2. 钻孔与孔金属化
激光钻孔:紫外激光(波长355nm)加工微孔(孔径0.1mm±3μm),孔壁粗糙度Ra<0.5μm,确保高频信号低损耗传输。
沉铜工艺:采用垂直连续电镀(VCP)技术,孔内铜层厚度均匀性达80μm,脉冲电镀减少空洞缺陷。
3. 图形转移与蚀刻
LDI曝光:激光直接成像技术(10000dpi分辨率)实现线宽±3μm精度,补偿设计线宽(如0.35mm成品线对应0.50mm底片)以抵消蚀刻侧蚀。
等离子蚀刻:各向异性蚀刻(蚀刻因子>5:1)确保高频信号线边缘光滑,减少串扰。
4. 阻焊与表面处理
阻焊工艺:LDI曝光固化阻焊油墨,孔拐角油墨厚度≥8μm,面基材厚度≥170μm,避免铜层氧化。
表面处理:6层以上板免费升级2μm沉金工艺,提升高频信号导通可靠性。
5. 质量检测
AOI检测:机器视觉识别开路/短路缺陷,四线低阻测试排查毫欧级阻抗异常。
微切片分析:验证孔铜厚度(目标80μm)及层间结合强度,空洞率需<0.1%。
高频PCB制造需平衡材料特性与工艺精度,例如5G基站用板需通过10层以上盘中孔工艺(树脂塞孔+二次电镀)提升信号完整性。
审核编辑 黄宇
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