三维成像技术:共聚焦成像vs光片成像的光学切片

描述

随着科技的进步,多种显微成像技术应运而生,其中共聚焦显微镜光片显微镜因其优异的光学切片能力备受关注,这两类设备分别依托共聚焦成像光片成像技术实现切片功能,且在成像原理、适用场景及实际应用效果上存在显著差异。下文,光子湾科技将深入对比这两种成像技术的核心特点,为科研人员根据研究目标选择适配工具提供参考。

 

光学切片的作用

普通光学显微镜会同时照亮样本所有深度,探测器接收焦平面与非焦平面光线,导致“信息混杂”;即便优化参数增加景深,也会牺牲分辨率或 z 轴信息。光学切片的核心是空间滤波:通过特定光学设计仅保留焦平面信号,获取单一深度“切片图像”,连续采集后拼接成三维图像

 

共聚焦成像的技术特性

三维成像

共聚焦显微镜中光学切片的示意图

共聚焦成像的核心是单点照明+ 针孔滤波,因“照明与检测焦点重合” 得名,共聚焦显微镜正是这一技术的载体。

其光路设计具有对称性:激发光经高数值孔径(NA)物镜聚焦为衍射极限单点光斑(直径d≈λ/NA,λ 为激发光波长),样本荧光信号沿原光路返回,需通过 “针孔光圈” 才能被探测器接收,针孔可滤除非焦平面杂散光,充当z 轴空间滤波器。图像生成需通过扫描系统控制光斑在 x-y 平面逐点、逐行移动,同步将光强转化为数字信号,拼接成光学切片

性能上,共聚焦线频率高,但为保证信噪比,常规帧率≤10 帧 / 秒;且适配高 NA 物镜,横向分辨率达数百纳米,焦平面图像均匀性优异。此外,共聚焦基于标准同轴光学显微镜,可切换明场、相差等常规模式,还是多光子激发、STED 超分辨率等技术的基础平台。

 

光片成像的技术特性

三维成像

光片显微镜中光片成像的示意图

光片成像是光片显微镜的核心成像技术,其核心原理是正交光片照明+ 相机并行检测,用筒镜生成光片实现荧光成像,通过扫描垂直于观察轴的细激光束,进一步提升灵活性。原理上,光片成像沿垂直于观察轴方向照射样本,形成微米级薄光片,仅照亮焦平面;探测器(如CCD 相机)与照明方向正交,并行采集整个焦平面信号,无需逐点扫描,大幅提升成像速度。

其核心优势在于低光毒与高速度:仅焦平面被照明,非焦平面区域几乎无激发光;帧率仅受相机限制,适配动态过程成像。同时,z 轴照明均匀,无荧光强度衰减问题。但局限则是发射光需穿过样本,样本混浊时会降低图像对比度,横向分辨率低于共聚焦显微镜

 

共聚焦成像与光片成像技术差异

照明方式:共聚焦沿z 轴垂直照明,光片垂直于z 轴水平照明

检测方式:共聚焦逐点串行接收,光片相机并行接收

适用场景:共聚焦适固定样本的高分辨率成像,光片适配活细胞动态成像

共聚焦成像与光片成像的本质差异,在于“实现焦平面选择性照明与检测” 的方式。共聚焦成像以“高分辨率” 为优势,凭借对微观精细结构的三维成像分析能力,成为基础科研中的通用工具;光片成像则以“低光毒、高速度” 为核心,可用于活细胞动态成像。明确二者的技术边界与应用价值,能帮助科研人员更高效地匹配研究场景,让光学切片技术更利于研究目标的实现。


 

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光子湾3D共聚焦显微镜是一款用于对各种精密器件及材料表面,可应对多样化测量场景,能够快速高效完成亚微米级形貌和表面粗糙度的精准测量任务,提供值得信赖的高质量数据。

三维成像
 

超宽视野范围,高精细彩色图像观察

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光子湾共聚焦显微镜以原位观察与三维成像能力,为精密测量提供表征技术支撑,助力从表面粗糙度与性能分析的精准把控,成为推动多领域技术升级的重要光学测量工具。

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