半导体先进封装“重布线层（RDL）”工艺技术的详解；

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随着电子设备向更小型化、更高性能的方向发展，传统的芯片互连技术已经无法满足日益增长的需求。在这样的背景下，重布线层（RDL）工艺技术应运而生，因为与传统封装相比，当前先进封装技术凭借三大核心优势脱颖而出：显著提升芯片功能密度、大幅缩短互联距离、实现系统级重构。而这一技术飞跃的实现，很大程度上得益于重布线层（RDL）工艺技术的突破性应用，从而成为了先进封装技术中的核心之一。

封装中的重布线层（RDL）工艺是集成电路封装设计中的一个重要层次，主要用于实现芯片内电气连接的重新分配，并且在封装中起到连接芯片和外部引脚之间的桥梁作用。重布线层（RDL）的设计和实现直接影响到封装的电气性能、可靠性和制造成本。

一、重布线层（RDL）工艺技术的概述

重布线层，英文全称：Re-Distribution Layer，简称：RDL。它是先进封装的关键互连工艺之一，其核心目的是将多个芯片集成到单个封装中。该工艺通过在介电层顶部创建图案化金属层，将IC的输入/输出（I/O）重新分配到新位置（通常位于芯片边缘），从而利用标准表面贴装技术（SMT）实现IC与印刷电路板（PCB）的高效连接。RDL技术不仅使设计人员能够以紧凑且高效的方式布局芯片，还能显著减少器件的整体占地面积，成为实现高密度异构集成的核心技术支撑。

晶圆级金属重布线制程在IC上涂布一层绝缘保护层，再以曝光显影的方式定义新的导线图案，然后利用电镀技术制作新的金属线路，以连接原来的芯片引脚和新的凸点，达到芯片引脚重新分布的目的。重布线层的金属线路以电镀铜材料为主，根据需要也可以在铜线路上镀镍金或者镍钯金材料，相关核心材料包括光刻胶、电镀液、靶材、刻蚀液等。

二、IC输入/输出（I/O）数量的介绍

业内人都知道：想要在微缩化的芯片世界中，通过重布线层（RDL）工艺妙地重新布局IC输入/输出（I/O）焊盘，实现高性能与高可靠性的双重飞跃就一定先要了解“输入/输出（I/O）”，那究竟什么是输入/输出（I/O）呢？

其实，输入/输出（I/O）的缩写“I/O”是“Input/Output”的英文首字母。而输入/输出（I/O）数指的就是芯片上输入输出端口的数量，也可以说是引脚的数量。I/O数量越多，芯片可以同时传输的数据量就越大，处理速度越快。

1、重布线层（RDL）重塑输入/输出（I/O）的未来

重布线层（RDL）这个看似简单的缩写背后，承载着半导体封装领域的一次革命性变革。在追求更高集成度、更快数据传输速度的今天，重布线层（RDL）工艺将芯片的输入/输出（I/O）焊盘从密集的中心区域迁移至边缘，并在更广阔的空间内重新分布。这一创新不仅极大地缓解了输入/输出（I/O）端口拥挤的问题，更为先进封装技术如3D封装、扇出型封装（FOWLP）等提供了强有力的支持，使得芯片能够拥有更多的输入/输出（I/O）数量，从而满足日益增长的数据传输需求。

2、输入/输出（I/O）数量是速度与效率的双重考量

输入/输出（I/O）数量是衡量芯片与外界通信能力的关键指标，直接关乎到芯片的数据吞吐量与处理速度。想象一下，一个拥有众多输入/输出（I/O）端口的芯片，就像是一个四通八达的交通枢纽，能够同时处理来自多个方向的数据流，实现信息的快速交换与处理。因此，随着云计算、大数据、人工智能等技术的蓬勃发展，对芯片输入/输出（I/O）数量的需求也在不断攀升。RDL工艺正是在这一背景下应运而生，它通过优化输入/输出（I/O）布局，让芯片在有限的面积内实现更高的数据传输效率。

三、重布线层（RDL）技术的工艺流程

1、晶圆清洗

晶圆清洗是RDL工艺的第一步，通过物理和化学方法去除晶圆表面的杂质和颗粒，为后续的工艺步骤创造一个干净、无污染的工作环境。这一步骤对于提高光刻胶和金属沉积层的附着性至关重要。

2、PI-1 Litho（第一层PI光刻）

在这一步中，利用PSPI（光敏性聚酰亚胺）光刻工艺，在晶圆上精确地制作出第一层钝化层（PI-1）的图案。PSPI作为一种高性能的光刻材料，能够在紫外光照射下发生化学变化，从而实现图案的精确转移。这一过程为后续的金属沉积提供了必要的保护屏障。

3、Ti/Cu Sputtering（钛/铜溅射沉积）

紧接着，进行钛/铜溅射沉积，形成底部金属层（UBM）。钛层作为缓冲层，能够有效隔离铜层与钝化层之间的直接接触，防止铜原子扩散；而铜层则作为电镀的种子层，为后续的电镀工艺提供了均匀的基底。

4、PR-1 Litho（第一层光刻胶光刻）

在UBM层上涂布一层光刻胶，然后通过曝光和显影工艺，精确地定义出RDL的图案。这一层光刻胶就像一张精密的“地图”，指引着铜电镀的方向，保护着不需要电镀的区域，同时在需要电镀的区域暴露出铜层。

5、铜电镀（Cu Plating）

在光刻胶露出的区域进行铜电镀，形成RDL的导电层。这一步骤是RDL工艺的核心，通过电镀的方式将铜沉积在暴露的UBM层上，形成连接芯片的焊盘和封装外部引脚的导电通道。

6、光刻胶去除（PR Strip）

电镀完成后，需要去除光刻胶，以便进行后续的工艺步骤。这一步通常采用化学方法，将光刻胶从晶圆表面剥离。

7、UBM层蚀刻（UBM Etching）

采用湿法刻蚀技术，去除不需要的UBM层，只保留在RDL电镀区域下方的UBM层。这一步骤确保了RDL结构的精确性和完整性。

8、PI-2 Litho（第二层PI光刻）

最后，进行第二层PI光刻，为RDL提供额外的保护。这一层PI层不仅增强了RDL的机械强度，还提高了封装的可靠性，确保芯片在恶劣环境下仍能稳定工作。

四、重布线层（RDL）工艺的构造材质

重布线层（RDL）的构造并非随意为之，而是经过精心设计的材料组合。阻挡层通常采用Ti/Cu（钛/铜）结构，钛层作为缓冲层，能够有效防止铜原子向钝化层扩散，同时增强铜层与钝化层之间的粘附力；铜层则作为电镀的种子层，为后续的电镀工艺提供坚实的基础。互联材料选用导电性能优异的铜，确保信号在重布线层（RDL）中的高效传输。而介质材料则多采用聚酰亚胺（PI），以其良好的绝缘性、耐热性和机械强度，为重布线层（RDL）提供必要的保护与支撑。

五、重布线层（RDL）工艺的设计目标

1、信号分配

重布线层（RDL）的一个主要目标是将芯片的I/O（输入/输出）信号有效地分配到封装的不同区域。这样做可以优化信号传输路径，减少信号延迟和串扰。

2、电源分布

除了信号线的布置外，重布线层（RDL）还负责电源层的布置，确保芯片和封装基板之间的电流稳定传输，避免过高的电流密度导致过热或烧毁问题。

3、尺寸与性能平衡

通过优化重布线层（RDL）的布局，设计师可以在保持小封装尺寸的同时，满足高性能的要求。这对于高集成度的芯片尤为重要。

六、重布线层（RDL）工艺的设计步骤

重布线层（RDL）的设计通常包括以下几个步骤：

1、信号分配分析

在设计重布线层（RDL）之前，首先要评估芯片内部的信号连接方式，分析每个I/O引脚的功能和其需要的连接路径。通过与芯片设计团队协作，确保信号线的最优布局。

2、布线设计

根据需求进行具体的重布线层（RDL）布线设计。重布线层（RDL）通常采用多层结构，通过不同层次的线路进行信号和电源的分配。设计时需要考虑布线路径、走线长度、宽度、间距等，以优化电气性能并避免信号干扰。

3、电气性能仿真

在设计完成后，通过仿真工具对重布线层（RDL）进行电气性能验证。这包括信号完整性（SI）和电源完整性（PI）分析，确保高频信号不会因布线不当产生衰减，电源分布稳定。

4、热力分析与优化

由于高功率芯片会产生大量热量，重布线层（RDL）的设计还需要进行热力学分析。通过模拟热流和散热路径，确保封装内的温度不会过高，避免对芯片性能产生负面影响。

5、制造与测试验证

重布线层（RDL）设计完成后，进入制造阶段。制造时需要根据设计图纸进行多层基板的制作，并通过各种测试方法验证重布线层（RDL）的电气连接性和机械稳定性，确保封装可以顺利通过后续的可靠性测试。

七、重布线层（RDL）工艺技术与封装的关系

重布线层（RDL）层通常作为芯片封装的核心组成部分，与其他封装结构（如基板、外部引脚等）紧密配合。它不仅为芯片和封装基板之间的连接提供了通路，还决定了封装的电气性能、散热性能以及最终的封装尺寸。

例如，像BGA（Ball Grid Array）或FCBGA（Flip Chip Ball Grid Array）封装中，RDL负责将芯片的I/O引脚重分布到基板上的焊球位置，确保信号从芯片传输到封装外部的电路板。

八、重布线层（RDL）工艺的技术挑战

1、多层结构复杂性

重布线层（RDL）设计需要使用多层布线，这增加了设计的复杂性。设计师需要平衡信号传输质量、热性能和机械稳定性等因素。

2、信号完整性问题

随着芯片频率和集成度的增加，重布线层（RDL）中的信号完整性问题变得愈发严重。如何减少信号的损失、避免信号串扰、提高抗干扰能力是重布线层（RDL）设计的关键。

3、尺寸与成本控制

在保证性能的前提下，重布线层（RDL）的设计需要尽量减少封装的体积和制造成本。因此，如何通过优化布线来减小封装尺寸，并确保成本可控，是设计过程中必须考虑的因素。

九、重布线层（RDL）工艺的应用与发展趋势

当前，重布线层（RDL）工艺的应用的应用领域主要有以下几方面：

1、AI/HPC芯片

（1）2.5D封装：CoWoS用RDL替代硅中介层连接GPU与HBM（成本降低30%）

（2）3D IC：混合键合前的临时互联层

2、移动设备

Fan-Out WLP：苹果A系列处理器用重布线层（RDL）直接连接PCB，厚度减少40%

3、汽车电子

耐高温重布线层（RDL）：掺钌铜导线可在150℃下稳定工作

4、CIS传感器

超细线路：0.8μm 重布线层（RDL）实现2000万像素传感器布线

重布线层（RDL）技术作为先进封装的核心互连方案，通过重分布芯片I/O信号实现三大关键应用：在Flip Chip封装中优化焊球布局（Redistribute I/Os for bump alignment），在WLP晶圆级封装中重构布线路径（Reconfigure routing paths），以及在SiP系统集成中搭建多芯片互连桥梁（Bridge multi-die interconnection）。这项"万能布线"技术（Universal wiring solution）既能突破芯片原生I/O限制，又可实现微米级互连，同时降低30%以上封装成本，已成为从2.5D/3D封装到Chiplet集成的关键使能技术。

随着集成电路技术的不断进步，封装的要求也越来越高。重布线层（RDL）工艺技术在高性能芯片封装中起着越来越重要的作用。尤其在像5G、AI、汽车电子等领域，对封装的要求更是不断提高。未来，重布线层（RDL）工艺技术将朝着更高频、更小尺寸、更低成本的方向发展，同时加强与热管理、可靠性分析等其他封装领域的协同设计。

总结一下

重布线层（RDL）工艺是集成电路封装中不可或缺的设计层，负责芯片与封装之间的电气连接与信号分配。它不仅影响封装的电气性能，还与封装的尺寸、热管理、成本等多个因素密切相关。随着技术的发展，重布线层（RDL）工艺技术设计正变得越来越复杂，要求设计师在保证性能的同时，还需优化尺寸、成本，并解决信号完整性等技术挑战。

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审核编辑 黄宇