氩离子抛光制样经验分享

描述

氩离子抛光技术通过电场加速产生的高能氩离子束,在真空环境下对样品表面进行可控的物理溅射剥离。与传统机械制样方法相比,其核心优势在于:完全避免机械应力导致的样品损伤,能够保持材料的原始微观结构,实现真正的全局平面化处理,为后续的SEM、EDS、EBSD等分析提供理想的观测基底。

一、微纳米颗粒 (针对200μm以下样品) 

 

微纳米颗粒样品,如锂电池阳极材料等,通常需要利用扫描电镜观察形貌、统计粒度、进行能谱分析及长度测量。然而,当需要观察其内部结构时,传统制样方法往往难以满足要求。

 

研钵研磨或刀片压碎的方式通常只能暴露颗粒的断裂面,且成功率较低,电镜观察时需要大量时间寻找有效视野;而镶嵌包埋结合机械抛光的方法不仅耗时,还容易导致样品脱落,并且需要考虑镶嵌料对样品的潜在影响。

 

例如,在某案例中,客户要求观察微纳米颗粒的表面和断面形貌。通过研钵研磨处理后,样品中可见大量碎裂颗粒,断面形态杂乱不一,无法进行有效的测量和分析。

 

而采用氩离子抛光设备处理后,样品中的颗粒被整齐切开,截面平整均匀,非常便于内部结构的观察和精确测量。在更高放大倍数下,颗粒内部的微观结构清晰可见,为材料分析提供了可靠的表征基础。


 

二、多层复合材料/镀层/高分子薄膜 

 

多层复合材料、镀层及高分子薄膜(如锂电池隔膜等柔性材料)的截面分层结构分析是常见的表征需求。这类材料由于柔性大,采用传统的剪切或液氮脆断方法极易导致截面分层扭曲、边缘不齐整,严重影响后续的精确测量。

 

案例:石墨极片的氩离子抛光截面制样

 

某石墨生产厂家委托金鉴实验室对其石墨极片进行氩离子抛光截面制样。通过氩离子抛光技术,可以清晰地观察到电极材料涂片的内部结构。抛光前,由于样品是用剪刀剪切而成,截面上的损伤层较大,无法看清真实的内部结构。金鉴实验室拥有专业的氩离子抛光切割设备和技术团队,能够确保制样的准确性和可靠性。

 

三、电子元器件

 

电子元器件由于其越来越微小、越来越复杂,其失效时很难定位,也很难用普通手段看清其内部结构。金鉴实验室通过氩离子抛光技术,能够显著提升样品的质量,为后续的检测分析提供更准确的数据支持。


 

通过氩离子抛光技术处理后的电子元器件样品,可在扫描电镜下清晰展示其内部布局。在典型案例中,经过抛样的区域能够分辨出尺度仅为数十纳米的微观结构,为失效分析及结构验证提供了直接证据。另一案例中,局部放大后可见明确的十层堆叠结构,各层之间界面清晰,进一步证明了该技术在复杂微结构表征中的优势。

 

氩离子切割与抛光技术不仅在锂电池材料研究中具有重要应用,还在金属材料、半导体材料、电子器件等领域发挥着关键作用。例如,在金属材料的微观结构分析中,氩离子抛光能够去除表面氧化层和机械加工痕迹,使晶格结构清晰可见;在半导体材料的研究中,氩离子切割技术能够精确制备出高质量的截面样品,为器件的性能研究提供支持。

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