在当前液晶显示器行业,TFT液晶面板因其优异的动态显示性能而广泛应用,作为其关键配套,背光显示模组需提供均匀、充足的光源,而光学膜片正是模组的核心材料。膜片表面精密的阵列微结构(如棱镜、透镜等)直接决定了光线汇聚、导引与扩散的效果,其轮廓尺寸的精度是影响背光效能乃至最终面板显像品质的决定性因素。光子湾科技的共聚焦显微镜可为此提供关键解决方案,对表面微结构进行精确的三维测量,成为保障产品性能、优化工艺的核心技术。
共聚焦显微镜在光学膜片微结构测量的应用主要集中在三维形貌复原、关键尺寸(CD)计量、粗糙度分析及缺陷检测等方面:
三维形貌复原与几何参数提取
对于具有周期性或非周期性微结构的光学膜片,如增亮膜(BEF)的棱镜阵列、扩散膜的微散射粒子或微透镜阵列,共聚焦显微镜能够快速获取其完整的三维表面形貌数据。
如测量BEF棱镜的顶角、高度、间距、峰谷粗糙度等。通过三维数据,可以精确计算棱镜的几何形状,评估其导光效率的一致性。对于微透镜,可以测量其曲率半径、矢高及阵列的排列均匀性。
测量优势:相比二维投影方法(如SEM仅能看俯视),共聚焦显微镜提供了真实的侧壁角度和深度信息,这对于模拟光线传播行为至关重要。其测量结果可直接用于光学模拟软件的输入,实现“测量-模拟-优化”的闭环设计。
表面粗糙度与纹理分析

光学膜片的表面检测
即使是看似平整的光学膜,其纳米到微米级的表面粗糙度也极大地影响着光的散射、反射和附着性能。共聚焦显微镜能够按照ISO 25178等标准,提供一系列面积性的三维粗糙度参数,如Sa(算术平均高度)、Sq(均方根高度)、Sz(最大高度)、Sdr(展开界面面积比)等。
如评估防眩膜(AG膜)的表面微粗糙纹理,分析其雾度与光泽度的平衡关系;测量硬质涂层表面的平滑度,预测其抗刮擦和光学性能。
测量优势:比传统的触针式轮廓仪测量范围更大、速度更快,且为面测量而非线测量,更能代表表面的整体特性。
薄膜厚度与层结构测量

液晶面板及光学膜片结构
对于多层复合光学膜,共聚焦显微镜的层析能力可以用于测量表面透明涂层的厚度(如果上下界面反射信号足够强),或测量微结构上不同材料的台阶高度。
测量优势:非破坏性,可对成品进行直接测量。
缺陷检测与质量控制

光学膜片的缺陷检测
在生产线上或实验室中,共聚焦显微镜可用于快速筛查膜片表面的缺陷,如划痕、凹坑、异物颗粒、结构缺失或成型不良等。结合图像分析软件,可以实现缺陷的自动识别、分类和统计。
测量优势:高对比度的光学切片图像能清晰揭示缺陷的形貌和深度,有助于追溯缺陷根源,指导工艺改进。
综上,共聚焦显微镜以其非接触、高分辨率、卓越光学层析及真三维定量分析能力,成功解决了光学膜片表面微结构在形貌复原、尺寸计量、粗糙度评估与缺陷检测中的关键测量难题。实现从微观形貌定性观察到高精度三维表征的跨越,成为连接膜片微结构设计与最终光学性能验证不可或缺的技术。
光子湾3D共聚焦显微镜
光子湾3D共聚焦显微镜是一款用于对各种精密器件及材料表面,可应对多样化测量场景,能够快速高效完成亚微米级形貌和表面粗糙度的精准测量任务,提供值得信赖的高质量数据。
超宽视野范围,高精细彩色图像观察
提供粗糙度、几何轮廓、结构、频率、功能等五大分析技术
采用针孔共聚焦光学系统,高稳定性结构设计
提供调整位置、纠正、滤波、提取四大模块的数据处理功能
光子湾共聚焦显微镜以原位观察与三维成像能力,为精密测量提供表征技术支撑,助力从表面粗糙度与性能分析的精准把控,成为推动多领域技术升级的重要光学测量工具。
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