随着电子设备向小型化、高密度、高精度方向发展,精细封装、狭窄间距布线等技术得到广泛应用,这对离子捕捉剂提出了更高要求:不仅要能高效去除杂质离子,还需具备小粒径、低添加量、与精细材料兼容等特性。东亚合成株式会社针对性研发的 IXEPLAS 系列超微粒子离子捕捉剂,以 “微粒子设计 + 双离子交换” 为核心亮点,完美适配精细电子制造需求。深圳市智美行科技作为其官方代理,现推出免费样品申领活动,让精细电子制造企业零成本体验高端离子捕捉方案。
IXEPLAS 系列的一次粒子均为亚微米级,其中 IXEPLAS-A2 的粒径仅 0.2μm,IXEPLAS-A1 为 0.5μm,IXEPLAS-B1 为 0.4μm。这种超微粒径设计带来两大核心优势:

IXEPLAS 系列均为双离子交换型产品,结构中同时具备阳离子交换位点和阴离子交换位点,能够在较宽的 pH 值范围内,同时捕捉 Na⁺、Cu²⁺、Ag⁺、Cl⁻、有机酸等多种杂质离子。
这种双离子交换特性,使得 IXEPLAS 系列无需搭配其他离子捕捉剂,即可解决复杂体系中的多种离子杂质问题,尤其适合精细电子制造中材料成分复杂、离子杂质种类多样的场景。例如,在铜焊线 + 银布线的混合封装体系中,IXEPLAS-A2 可同时捕捉 Cu²⁺和 Ag⁺,抑制两种金属离子的迁移,保障电路稳定。
精细电子材料对添加剂的杂质含量要求极高,微量杂质可能会影响材料的电学性能、光学性能或加工性能。IXEPLAS 系列经过严格的提纯工艺,杂质含量极低,添加到封装材料、胶粘剂、涂料等产品中后,不会对材料的固化速度、力学强度、透明度、附着力等性能产生不良影响,确保精细电子材料的原有性能不受干扰。
IXEPLAS 系列目前推出三款核心型号,针对不同精细电子制造场景进行差异化设计,具体参数与适用场景如下:
| 型号 | 粒径(μm) | 成分 | 擅长捕捉离子 | 耐热温度(℃) | 核心适用场景 |
|---|---|---|---|---|---|
| IXEPLAS-A1 | 0.5 | Zr、Mg、Al 系 | Na⁺、Cu²⁺、Ag⁺ | ~300 | 双离子交换纳米粒子标准型号,适用于常规精细封装、FPC 胶粘剂、精细涂料 |
| IXEPLAS-A2 | 0.2 | Zr、Mg、Al 系 | Na⁺、Cu²⁺、Ag⁺ | ~300 | 超微粒子型号,Cu²⁺捕捉能力突出,适合狭窄间距封装、铜焊线封装、精密银电极组件 |
| IXEPLAS-B1 | 0.4 | Zr、Bi 系 | Na⁺、Cl⁻、有机酸 | ~300 | 微粒子型号,Cl⁻捕捉能力强,适用于含卤族离子杂质的精细电子材料、有机溶剂提纯 |
实验条件:走线宽度 20μm、走线间距 20μm 的精细铝布线,环氧丙烯酸酯树脂中添加 IXEPLAS-A1(0.2 份),经过 130℃、85% RH、20V、20 小时高压蒸煮试验。实验结果:添加 IXEPLAS-A1 的样品,铝布线无明显腐蚀和迁移现象,电阻值上升率仅 0.5%;而无添加样品的电阻值上升率达 12%,且出现明显的布线氧化腐蚀痕迹。证明 IXEPLAS-A1 能在狭窄间距场景中高效捕捉 Cl⁻,抑制离子迁移。

实验条件:走线宽度 50μm、走线间距 50μm 的铜布线,环氧丙烯酸酯 + 聚氨酯丙烯酸酯树脂中添加 IXEPLAS-A1(1.0 份),进行 85℃、85% RH、50V、500 小时耐湿负荷试验。实验结果:添加 IXEPLAS-A1 的铜布线未出现迁移现象,而无添加样品在 500 小时后出现明显的铜离子迁移和短路风险,证明其对 Cu²⁺的捕捉抑制效果显著。
在精细电子涂料中添加 IXEPLAS-B1(0.5 份),与无添加样品进行盐雾试验和高温高湿老化试验。结果显示,添加 IXEPLAS-B1 的涂料涂层,耐盐雾时间从 200 小时延长至 500 小时,高温高湿环境下的防锈效果提升显著,且涂层透明度、附着力无任何变化,完美适配精细电子涂料的性能要求。
深圳市智美行科技作为东亚合成株式会社官方授权代理,深耕电子材料领域多年,积累了丰富的精细电子制造行业服务经验。针对 IXEPLAS 系列的推广,我们推出以下专属服务:
当前,精细电子制造正朝着 “更小、更密、更可靠” 的方向发展,离子杂质引发的问题在精细场景中被进一步放大,成为制约产品性能提升的关键因素。IXEPLAS 系列以超微粒子设计和双离子交换技术为核心,精准匹配了精细电子制造的需求,其价值主要体现在:
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精细电子制造的发展离不开高性能材料的支撑,东亚合成 IXEPLAS 系列离子捕捉剂以其独特的技术优势和经过验证的卓越效果,成为精细电子制造企业的理想选择。深圳市智美行科技作为官方代理,免费样品申领活动现已启动,诚邀广大精细电子制造企业参与测试,共同探索离子杂质解决方案,助力精细电子产品品质升级!
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