芯矽科技作为半导体湿法设备领域的领军企业,其高端湿制程装备及工艺技术综合解决方案具有以下核心优势:
物理+化学复合清洗技术
结合超声波/兆声波(1–10MHz高频)空化效应与高压喷淋,可清除低至10nm的颗粒,尤其适用于高深宽比结构(如TSV硅通孔、FinFET鳍片)。通过多角度水流覆盖复杂表面,实现无死角清洁。
支持RCA标准流程(SC-1/SC-2)、酸洗(DHF)、碱洗等工艺,温控精度达±0.1℃,满足SEMI Class 10级洁净度要求。
模块化功能扩展
设备支持氧化物蚀刻、去胶等附加模块,实现“一机多用”。例如,单片清洗机集成耐腐蚀槽体、智能控制单元,可自动完成溶液更换与补液,适配量产需求。
全闭环生产管理
基于PLC的无人化操作流程,机械手传输精度±0.1mm,支持与MES系统对接实现实时数据监控。AI算法动态调整清洗参数(温度、流速),并预测关键部件寿命,降低停机时间。
内置传感器监测电导率、液位等参数,生成SPC图表用于工艺追溯与优化,云端平台支持远程故障排查。
环保节能设计
废液分类回收系统(酸/碱/水三路分离)使化学液循环利用率≥85%,符合RoHS/REACH标准;热氮气吹扫与离心旋干技术减少水渍残留,兼顾敏感器件干燥需求。
材料兼容性与场景适配
采用PFA/PTFE材质槽体,兼容DIW、IPA、氢氟酸等多种介质,覆盖硅基、化合物半导体(如碳化硅、氮化镓)及先进封装基板等材料类型。
针对特殊需求提供非标定制,例如石英炉管清洗机支持精准控温与浓度调节,光伏领域高效清洗设备提升电池转换效率。
量产验证与客户生态
已进入长江存储、中芯国际、华虹集团等头部Fab产线,缺陷率降至0.5%以下,良率提升显著。在第三代半导体领域,其设备助力碳化硅功率器件制造,打破欧美日企业垄断。
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