深入了解FQD5P20/FQU5P20 - P沟道QFET® MOSFET

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描述

深入了解FQD5P20/FQU5P20 - P沟道QFET® MOSFET

一、前言

在电子工程师的日常设计工作中,功率MOSFET是不可或缺的重要元件。今天我们要详细探讨的是FQD5P20/FQU5P20 - P沟道QFET® MOSFET,它由Fairchild Semiconductor生产,如今Fairchild已成为ON Semiconductor的一部分。这款MOSFET在开关电源、音频放大器、直流电机控制等诸多领域有着广泛的应用。

文件下载:FQU5P20-D.pdf

二、产品基本信息

2.1 品牌与系统整合

Fairchild Semiconductor已被ON Semiconductor整合,部分Fairchild可订购的产品编号需更改以符合ON Semiconductor的系统要求。由于ON Semiconductor的产品管理系统无法处理带有下划线()的部件命名,Fairchild部件编号中的下划线()将改为破折号(-)。大家可通过ON Semiconductor网站(www.onsemi.com)核实更新后的设备编号。

2.2 产品概述

FQD5P20/FQU5P20是P沟道增强型功率MOSFET,采用了Fairchild Semiconductor专有的平面条纹和DMOS技术。这种先进的MOSFET技术经过特别设计,旨在降低导通电阻,提供卓越的开关性能和高雪崩能量强度。

三、产品特性

3.1 电气特性

  • 电压与电流参数:其漏源电压(VDSS)为 -200V,连续漏极电流(ID)在25°C时为 -3.7A,100°C时为 -2.34A,脉冲漏极电流(IDM)可达 -14.8A。
  • 导通电阻:在VGS = -10V、ID = -1.85A的条件下,导通电阻RDS(on)最大为1.4Ω。
  • 低栅极电荷:典型栅极电荷为10nC,有助于降低开关损耗,提高开关速度。
  • 低Crss:典型值为12pF,可减少米勒效应,提升开关性能。
  • 雪崩测试:经过100%雪崩测试,保证了产品在雪崩情况下的可靠性。

3.2 热特性

  • 热阻:结到外壳的热阻RθJC最大为2.78°C/W;在最小2oz铜焊盘情况下,结到环境的热阻RθJA最大为110°C/W;在1in²的2oz铜焊盘情况下,结到环境的热阻RθJA最大为50°C/W。

四、产品应用

4.1 开关电源

在开关电源中,FQD5P20/FQU5P20的低导通电阻可降低功率损耗,提高电源效率;其卓越的开关性能能够快速切换,减少开关时间,降低开关损耗,从而提高电源的整体性能。

4.2 音频放大器

在音频放大器中,低栅极电荷和低Crss特性有助于减少信号失真,提高音频质量。同时,其高雪崩能量强度能够保证在音频信号的高峰值时稳定工作。

4.3 直流电机控制

在直流电机控制中,该MOSFET可以实现快速的开关动作,精确控制电机的转速和转向。其低导通电阻能够降低电机驱动电路的功耗,提高电机的效率。

五、产品封装与订购信息

5.1 封装形式

FQD5P20采用DPAK封装,FQU5P20采用IPAK封装。这两种封装形式都具有良好的散热性能和电气性能,能够满足不同应用场景的需求。

5.2 订购信息

设备标记 设备 封装 卷轴尺寸 胶带宽度 数量
FQD5P20 FQD5P20TM DPAK 330 mm 16 mm 2500
FQU5P20 FQU5P20TU I PAK - - 70

六、注意事项

6.1 产品使用限制

ON Semiconductor产品不设计、不打算也未授权用于生命支持系统、任何FDA 3类医疗设备或在外国司法管辖区具有相同或类似分类的医疗设备,以及任何打算植入人体的设备。如果购买者将产品用于此类非预期或未授权的应用,购买者应承担相关责任。

6.2 参数验证

ON Semiconductor数据手册和/或规格中提供的“典型”参数在不同应用中会有所不同,实际性能也可能随时间变化。所有运行参数,包括“典型值”,都必须由客户的技术专家针对每个客户应用进行验证。

大家在实际使用这款MOSFET时,是否遇到过什么特殊的问题或者有什么独特的应用经验呢?不妨在评论区分享一下。

七、总结

FQD5P20/FQU5P20 - P沟道QFET® MOSFET凭借其优秀的电气特性和热特性,在多个领域都有广泛的应用前景。作为电子工程师,我们在设计电路时需要充分考虑其特性和使用限制,以确保设计的可靠性和稳定性。同时,我们也要关注ON Semiconductor的系统更新和产品变化,及时获取最新的信息。

希望这篇文章能对大家在使用FQD5P20/FQU5P20 MOSFET时有所帮助,如果大家有任何疑问或者想进一步探讨的内容,欢迎随时交流。

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