倍加福电容传感器解锁液位监测新方案

在纳米级精密的半导体制造产业链中，清洗设备并非辅助配角，而是贯穿晶圆加工全流程的核心工艺装备，更是芯片良率的 “隐形守护者”。

晶圆生产中，化学液如同血液贯穿各环节，酸、碱、有机研磨液等化学品的高纯度、高稳定性与高一致性，是保障芯片良率的关键指标，而集中供应系统则让这些指标实现流程化、可复制、可追溯。

设备以原子级洁净为标准，依托物理、化学及复合清洗技术，为光刻、刻蚀、沉积、离子注入、CMP 等关键工序提供洁净、无损且均匀的晶圆表面，直接决定芯片的最终性能、长期可靠性与量产良率。

应用挑战

清洗槽底部通常装有加热器，若液位过低导致加热器暴露在空气中，易引发干烧故障，不仅会损坏设备核心部件，更可能引发安全事故;反之，液位过低会导致晶圆(硅片)浸没不充分，直接造成清洗不彻底，影响后续工序与芯片良率;而液位过高则可能导致药液溢出，既浪费高价值的化学清洗液，又会污染半导体车间的洁净环境。

更需注意的是，强酸、强碱等腐蚀性清洗液一旦溢出，不仅会污染车间，还会腐蚀周边设备、危害操作人员人身安全，多重风险亟待准确管控。

解决方案

倍加福电容传感器凭借非接触、高精度、耐酸碱、无机械磨损的核心优势，成为湿法清洗设备的“感知神经”，让原子级洁净管控可防、可控、可溯。

电容传感器是指将被测量(例如与被测物之间的距离)的变化转换成电容量变化的一种传感器。其结构简洁，由两块极板+电容极板间的介质组成，当有物体靠近时，物体的介电常数与空气不同，就会改变整个电容的值，从而触发回路输出。

针对半导体清洗场景，清洗槽多采用PE/PTFE材质，清洗液多为强酸强碱腐蚀性介质，倍加福电容传感器采用外装不触液设计，可轻松穿透10mm以上槽体壁厚，准确实现液位高低点判定，既能替代高成本的差压式/投入式仪表，又能从根源上规避介质腐蚀传感器、造成交叉污染的行业痛点。

产品优势

电容式传感器检测范围灵活适配 0-15mm，采用宽电压供电设计，可稳定支持 10…30V DC 工作电压。

圆柱型 M30 系列：自带旋钮电位器，在传感器本体即可快速调节，操作高效便捷;

方型 F46 电缆示教款：支持通过线缆实现液位示教，示教线接入系统后，直接在操作面板完成参数设定，无需操作人员前往安装工位，大幅提升现场调试效率。

产品特性亮点

非接触，不污染晶圆

耐腐蚀、不渗漏、寿命长

高精度、响应快、控制准确

安装简单，不用开孔破坏槽体

关于倍加福

倍加福–未来自动化的驱动者和创新者

倍加福以德国曼海姆为公司总部，凭借其持续不断的对创新技术的研发，向全球工厂自动化和过程行业的客户提供丰富而多样的产品，致力于自动化行业的传统应用和面向未来的应用。同时，倍加福不断推动前瞻性技术的开发，为客户迎接即将来临的工业 4.0 的挑战铺平了道路。