紫光集团:组建DRAM事业群,全力加速发展国产内存

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6月30日晚间,紫光集团发布公告称,决定组建紫光集团DRAM事业群,全力加速发展国产内存。根据通知,紫光集团将委任刁石京为紫光集团DRAM事业群董事长,委任高启全为紫光集团DRAM事业群CEO。

资料显示,刁石京曾任工信部电子信息司司长,工信部电子信息司是中国集成电路产业的具体主管司局,刁石京是一位专家型官员,早年毕业于清华大学,长期在工信部电子信息司工作,是中国集成电路领域的资深人士。2018年初,刁石京加入紫光集团,协助紫光集团董事长赵伟国分管集成电路业务,目前还担任紫光国微(SZ:002049)的董事长和紫光展锐的执行董事长,也是紫光集团旗下长江存储的执行董事。

高启全有“***存储教父”之称,曾在Intel工作,还曾在韩国及日本当顾问,曾任现代电子(海力士前身)DRAM顾问。他早年追随张忠谋回***,加入台积电任一厂厂长,后创办旺宏电子,还曾任***DRAM公司南亚科总经理和华亚科董事长,是华人在全球DRAM界最资深的人士。2015年,高启全受紫光集团董事长赵伟国之邀,北上加入紫光集团,出任紫光集团全球执行副总裁;2016年长江存储成立后,担任长江存储的执行董事、代行董事长。

据知情人透露,紫光集团早在2015年即开始布局DRAM,延揽高启全加入紫光集团就是布局的开始,在高启全加入紫光集团的同时,紫光国微(原名同方国芯)收购了任奇伟团队所创办的公司(现在的西安紫光国芯),任奇伟团队的前身是奇梦达公司的西安研发中心,任奇伟团队一直从事DRAM的研发工作,目前团队人数约500人,从紫光国微的年报披露情况看,该团队的DRAM产品销售收入每年约在5~6亿人民币之间,其产品自行设计,在境外代工。2015年,紫光集团还试图通过收购美光进入DRAM和3D NAND领域,但收购美光受到美国政府的阻击,未能如愿以偿。

不过,目前全球的存储芯片三巨头,三星、海力士、美光,都是既做DRAM又做3D NAND。据知情人透露,紫光集团在收购美光遇阻后,原计划通过自行研发先进入DRAM领域,然后再进入3D NAND,但在国家集成电路产业基金的协调下,紫光和湖北省、武汉市合作,与国家集成电路产业基金一起,在武汉新芯的基础上,组建了长江存储,制定了先三维闪存,后DRAM的战略,同时布局DRAM的研发,积蓄DRAM的工艺人才。

据知情人透露,紫光集团借助长江存储和武汉新芯的平台,聚集了大量的3D NAND和DRAM的工艺研发人员,工艺研发人员人数近2000人。目前长江存储和武汉新芯的员工人数近6000人。

据了解,目前长江存储的32层3D NAND已经量产,并且即将于今年年底量产的64层Xtacking 3D NAND,其存储密度仅比竞品96层的3D NAND低10~20%。而下一代,长江存储将直接跳过96层堆叠,直接进入128层堆叠的研发。

从紫光集团旗下长江存储的3D NAND闪存的研发和生产来看,紫光集团走的是公开式的自主研发路径,没有人质疑其知识产权问题,这主要是因为NAND闪存技术正从2D走向3D这也使得其得以有弯道超车的可能。

相比之下目前DRAM技术已经是相当成熟,想要绕过国外DRAM巨头的技术并不容易。

所幸的是,2009年破产的德国DRAM厂商奇梦达,其西安研发中心当时已经被西安华芯(原浪潮集团旗下公司,今天的紫光国芯)收购。这也为紫光的DRAM的研发奠定了基础(此前,长鑫存储公开其DRAM技术来源也是奇梦达,因此外界认为是紫光与长鑫存储共享了该技术),同时也能够避免一些专利问题。

但是,需要指出的是,奇梦达此前所采用的是DRAM技术是深沟槽式(Trench),而目前主流的技术路线是堆栈式(Stack)。在沟槽式DRAM的制造中,必须先在基板蚀刻出沟槽,然后在沟槽中沉积出介电层,以形成电容器,然后在电容器上方再制造出栅极,构成完整的DRAM Cell。这种工艺最大的技术挑战有二,一是随着线宽越来越细,沟槽的宽深比跟着增加,如何蚀刻出这种沟槽,是相当大的技术挑战。其次,在进行沉积工艺时,由于沟槽的开口越来越细,要在沟槽里面沉积足够的介电材料,形成容值够高的电容器,也越来越难。相较之下,堆栈式DRAM则没有上述问题。

如果紫光DRAM继续沿着奇梦达的技术路径向前推进的话,显然将会非常的艰难,但是如果走堆栈式技术路径的话,可能又将遭遇国外DRAM厂商的专利围堵,那么在奇梦达技术的基础上,紫光是否能够通过自主研发,走出新的路径呢?我们拭目以待。

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