VT6000系列中图共聚焦激光扫描显微镜是一款用于对各种精密器件及材料表面进行微纳米级测量的检测仪器。它以共聚焦技术为原理，在转盘共聚焦光学系统的基础上，结合高稳定性结构设计和3D重建算法，共同组成测量系统。在材料生产检测领域中，共聚焦显微镜在陶瓷、金属、半导体、芯片等材料科学及生产检测领域中也具有广泛的应用。
产品功能
1)设备具备表征微观形貌的轮廓尺寸及粗糙度测量功能；
2)设备具备自动拼接功能，能够快速实现大区域的拼接缝合测量；
3)设备具备一体化操作的测量与分析软件，预先设置好配置参数再进行测量，软件自动统计测量数据并提供数据报表导出功能，即可快速实现批量测量功能；
4)设备具备调整位置、纠正、滤波、提取四大模块的数据处理功能；
5)设备具备粗糙度分析、几何轮廓分析、结构分析、频率分析、功能分析等五大分析功能；
6)设备具备一键分析和多文件分析等辅助分析功能，可实现批量数据文件的快速分析功能；
应用领域
对各种产品、部件和材料表面的面形轮廓、表面缺陷、磨损情况、腐蚀情况、平面度、粗糙度、波纹度、孔隙间隙、台阶高度、弯曲变形情况、加工情况等表面形貌特征进行测量和分析。
共聚焦显微镜主要有四部分组成：
1、显微镜光学系统。
2、扫描装置。
3、激光光源。
4、检测系统。
整套仪器由计算机控制，各部件之间的操作切换都可在计算机操作平台界面中方便灵活地进行。
技术指标
| 型号 | VT6100 | |
行程范围 | X | 100mm |
| Y | 100mm | |
| Z | 100mm | |
| 外形尺寸 | 520*380*600mm | |
| 仪器重量 | 50kg | |
| 测量原理 | 共聚焦光学系统 | |
| 显微物镜 | 10×;20×;50×;100× | |
| 视场范围 | 120×120 μm~1.2×1.2 mm | |
高度测量 | 重复性(1σ) | 12nm |
| 精度 | ± (0.2+L/100) μm | |
| 显示分辨率 | 0.5nm | |
宽度测量 | 重复性(1σ) | 40nm |
| 精度 | ± 2% | |
| 显示分辨率 | 1nm | |
| XY位移平台 | 负载 | 10kg |
| 控制方式 | 电动 | |
| Z0轴扫描范围 | 10mm | |
| 物镜塔台 | 5孔电动 | |
| 光源 | 白光LED | |
共焦显微镜系统所展现的放大图像细节要高于常规的光学显微镜。在相同物镜放大的条件下，共焦显微镜所展示的图像形态细节更清晰更微细，横向分辨率更高。如同为微纳检测的利器，共聚焦显微镜却是与白光干涉仪有着诸多不同，如果用一个字眼来形容，那么白光干涉仪是“文"，而共聚焦显微镜是“武"。白光擅长亚纳米级超光滑表面的检测，追求检测数值的精准；而共聚焦擅长微纳级粗糙轮廓的检测，虽在检测分辨率上略逊，但能够提供色彩斑斓的真彩图像便于观察。
产品特点
1）结构简单：仪器整体由一台轻量化的设备主机和电脑构成，控制单元集成在设备主机之内，亦可采用笔记本电脑驱动，实现了“拎着走"的便携式设计；
2）真彩图像：配备了真彩相机并提供还原的3D真彩图像，对细节的展现纤毫毕现；
3）操作便捷：采用全电动化设计，并可无缝衔接位移轴与扫描轴的切换，图像视窗和分析视窗同界面的设计风格，实现了所见即所得的快速检测效果；
4）采用自研的电动鼻轮塔台，并对软件防撞设置与硬件传感器防撞设置功能进行了优化，确保共聚焦显微镜在使用高倍物镜仅不到1mm的工作距离时也能应对。
VT6000系列中图共聚焦激光扫描显微镜结合精密Z向扫描模块、3D建模算法等对器件表面进行非接触式扫描并建立表面3D图像，可广泛应用于半导体制造及封装工艺检测，对大坡度的产品有更好的成像效果，在满足精度的情况下使用场景更具有兼容性。