搜索内容
登录
光刻技术
1人关注
随着半导体技术的发展，光刻技术传递图形的尺寸限度缩小了2～3个数量级（从毫米级到亚微米级），已从常规光学技术发展到应用电子束、 X射线、微离子束、激光等新技术；使用波长已从4000埃扩展到 0.1埃数量级范围。光刻技术成为一种精密的微细加工技术。
...展开
136
文章
0
视频
3
帖子
15796
阅读
关注标签，获取最新内容
全部
技术
资讯
资料
帖子
关于高密度布线技术有什么要求？
1810次阅读
2021-04-25
193 nm ArF浸没式光刻技术和EUV光刻技术
3907次阅读
2019-07-01
光刻技术原理及应用
9922次阅读
2012-01-12
相关推荐
更多 >
拆解
3D打印
贸泽电子
OGS
EUV
14nm
寒武纪
半导体芯片
EnOcean
Heilind
4K
×
20
完善资料，
赚取积分
下载APP
搜索内容
