搜索内容
登录
蚀刻
10人关注
最早可用来制造铜版、锌版等印刷凹凸版，也广泛地被使用于减轻重量（Weight Reduction）仪器镶板，铭牌及传统加工法难以加工之薄形工件等的加工；经过不断改良和工艺设备发展，亦可以用于航空、机械、化学工业中电子薄片零件精密蚀刻产品的加工，特别在半导体制程上，蚀刻更是不可或缺的技术。
...展开
414
文章
0
视频
14
帖子
16530
阅读
关注标签，获取最新内容
全部
技术
资讯
资料
帖子
PCB甩铜常见的原因有几种
2022-08-24
1868阅读
半导体制程工艺小课堂6（下）基板的物理蚀刻
2022-08-15
483阅读
硅中的各向异性湿法蚀刻工艺课堂4（下）
2022-08-09
896阅读
蚀刻工艺课堂素材分享（4）（上）
原创
2022-08-02
5286阅读
深硅蚀刻技术使下一代功率器件成为可能
2022-07-29
1954阅读
湿法蚀刻工艺的原理
原创
2022-07-27
3959阅读
硅片透蚀MACE化学镀金工艺优化方案
原创
2022-07-14
1865阅读
KOH硅湿法蚀刻工艺详解
原创
2022-07-14
5988阅读
一文详解湿法蚀刻和光刻工艺
原创
2022-07-13
4029阅读
GaN的晶体湿化学蚀刻工艺详解
原创
2022-07-12
4603阅读
AlGaN/GaN的光电化学蚀刻工艺
原创
2022-07-12
1937阅读
一文详解光刻胶剥离工艺
原创
2022-07-12
3066阅读
GaAs的湿法蚀刻和光刻工艺
原创
2022-07-12
2597阅读
硅和SiO2的湿化学蚀刻机理
原创
2022-07-11
2914阅读
硅湿法蚀刻中的表面活性剂
原创
2022-07-08
2151阅读
半导体器件制造中的蚀刻工艺技术概述
原创
2022-07-06
4737阅读
晶圆的湿法蚀刻法和清洁度
原创
2022-07-06
3107阅读
宽带隙半导体GaN、ZnO和SiC的湿法化学腐蚀
原创
2022-07-06
3278阅读
湿法蚀刻在硅片减薄中的作用
原创
2022-07-05
4527阅读
蚀刻后残留物和光刻胶的去除方法
原创
2022-07-04
1.1w阅读
上一页
9
/
21
下一页
相关推荐
更多 >
智慧城市
Pt100
TE Connectivity
可变增益放大器
电子管
OLED显示屏
创意
BT136
光耦型号
自锁电路
DesignSpark
×
20
完善资料，
赚取积分
下载APP
搜索内容
