三星电子在euv曝光技术取得重大进展，即将提高euv光照眼膜的透光率。三星电子ds部门研究员kensic表示，三星使用的euv光照眼膜透光率已达90%。计划在提高至94%至96%。euv光照眼膜是光照上的薄膜，保护光照，免于微尘或挥发性气体的污染是euv顺利传输今年初。三星声称已开发出透光率达88%的euv光照眼膜，且这款产品已经可以量产。当euv光照眼膜在250瓦光源下操作时，每平方公分会产生的五瓦热量导致温度高达680。十摄氏度以上，因此，除了降低光源衰退外，还必须解决光照眼膜在euv过程中遇到的桥区或断裂等散热问题。虽然三星也在dram生产线中采用euv制成，但考虑到生产率和成本。该公司认为，即使没有光照，眼膜，也可以进行存储器量产。euv技术是芯片制造的关键技术之一，希望三星和台积电能够继续研发出更先进的技术，满足全球芯片市场的需求。