相机cmos水痕
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CCD相机和CMOS相机的比较
CMOS(Complementary Metal Oxide Semiconductor)是互补金属氧化物半导体。CMOS相机原理框图如下。
2023-06-27 06:52:13
触摸屏耐漏电起痕指数仪
1970-01-01 08:00:00 至 1970-01-01 08:00:00
怎样通过重新化学表面处理改善水痕缺陷
根据水痕缺陷主要成分是氧化硅的特征， 利用磷酸氧化硅有较低的蚀刻率， 并不会蚀刻掉多晶硅的特性， 工艺易于控制。 因此对于用光学显微镜观察到产生水痕
2022-03-15 15:09:53
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