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pcb沉金工艺一般厚度

PCB沉金工艺是将电路板浸泡在含有金离子的化学溶液中,通过电化学反应将金离子还原成金属沉积在电路板表面,形成一层均匀的金属膜。

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PCB沉金工艺(化学镍金,ENIG)的厚度标准如下:

  1. 金层(Au)厚度

    • 常用范围2 - 6 微英寸 (μ”) 0.05 - 0.15 微米 (μm)
    • 典型推荐值3 - 5 μ” (0.075 - 0.125 μm) 最为普遍。
    • IPC-4552B标准: 规定了 最小厚度1.7 μ” (0.043 μm),但实际生产中一般不低于2 μ” (0.05 μm)
    • 金层作用: 保护镍层不被氧化,提供可焊性和接触面。
  2. 镍层(Ni)厚度

    • 关键特性: 镍层是沉金工艺的核心功能层,为焊接和键合提供界面。
    • 常用范围100 - 300 μ” (2.54 - 7.62 μm)3 - 8 微米 (μm)
    • 典型推荐值120 - 240 μ” (3 - 6 μm) 应用广泛。
    • IPC-4552B标准: 规定了镍层厚度范围为 120 - 240 μ” (3 - 6 μm)
    • 镍层作用: 作为焊料与铜之间的阻挡层,防止铜扩散;提供硬质表面;是金层的基底。

总结要点

因此,提及PCB沉金厚度时,金层通常指0.05-0.15μm(或2-6 μ"),镍层则是3-6μm(或120-240 μ")。最核心的参考标准是IPC-4552B

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