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多层pcb制作工艺流程

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多层PCB(Printed Circuit Board,印刷电路板)的制作工艺流程比单/双面板更为复杂,需要精确的层间对准和可靠的绝缘层压合。以下是其主要工艺流程:

核心流程(按顺序):

  1. 材料准备:

    • 内层芯板(Core): 准备覆铜箔的基材(通常FR-4),厚度根据设计需求选择。
    • 半固化片(Prepreg): 准备用于层间粘合的预浸树脂玻璃纤维布(如1080、2116、7628等型号),作为层间的绝缘和粘合层。
    • 铜箔(Copper Foil): 准备用于外层电路的铜箔。
  2. 内层线路制作:

    • 内层芯板清洁与预处理: 清洁铜面,去除氧化物和油污,增加附着力。
    • 涂布光刻胶(Dry Film Lamination): 在芯板铜箔上压贴感光干膜(或涂布液态光刻胶)。
    • 曝光(Exposure): 使用紫外光透过带有内层线路图案的底片(菲林)照射光刻胶,使线路区域的光刻胶发生光化学反应。
    • 显影(Development): 用化学药液溶解掉未曝光(或已曝光,取决于正胶/负胶)区域的光刻胶,露出下方的铜箔。
    • 蚀刻(Etching): 用蚀刻液(通常是酸性氯化铜或碱性氨水)将未被光刻胶保护的铜箔蚀刻掉,形成内层电路图形。
    • 去膜(Stripping): 用药液去除剩余的光刻胶层,露出最终的内层铜线路。
    • AOI光学检测(Automated Optical Inspection): 使用自动光学检测设备检查内层线路的完整性(开/短路、线宽线距等),标识出缺陷。通常在此步骤进行修补或报废判定。对于高精密板,可能会做AOI后冲洗(Post Rinse)并烘烤除湿(Post Bake)。
  3. 内层棕化/黑化(Oxidation / Black Oxide Treatment):

    • 对完成制作并经过处理(如微蚀)的内层板铜面进行化学氧化处理,使其表面形成一层粗糙、致密的黑色或棕色有机金属氧化物膜。关键目的:
      • 增加比表面积和粗糙度: 提高与半固化片中树脂的结合力。
      • 防止层压时树脂流入导致的结合不良(Desmear)。
      • 提高层间结合强度和耐热冲击能力。
  4. 层压(Lamination):

    • 叠层(Layup): 按照设计结构(如:半固化片 + 内层芯板 + 半固化片 + … + 外层铜箔),将棕化处理后的内层芯板、半固化片和作为外层初始铜箔的铜箔精确叠放在一起。关键: 需要使用X-ray定位打靶机保证各层间的靶标精确对准。
    • 压合(Pressing): 将叠好的料堆放入层压机的高温高压环境中。在高温(通常170°C-190°C)下,半固化片中的树脂熔化、流动并填充铜箔空隙;在高压下,各层被紧密压合在一起;经过特定时间后冷却固化,形成一块坚固的多层“覆铜板坯料”。
  5. 钻孔(Drilling):

    • 使用高精度的数控钻床(或激光钻床),根据设计文件在压合好的PCB上钻出通孔、盲孔或埋孔的孔位。需要合适的进给速度和转速保证孔壁光滑。
    • 关键: 孔的位置精度和孔壁质量至关重要,直接影响后续金属化和可靠性。
  6. 孔金属化(Plated Through Hole - PTH):

    • 除胶渣(Desmear): 钻孔时的高温会使孔壁附近树脂融化形成一层绝缘的环氧树脂胶渣。用化学方法(如浓硫酸+高锰酸钾,或等离子体)去除这层胶渣,暴露内层铜环。
    • 化学沉铜(Electroless Copper Deposition / Panel Plating):
      • 孔壁活化(Catalyst Deposition): 使孔壁表面吸附一层活性的钯催化剂微粒。
      • 化学沉铜: 在活化后的孔壁表面沉积一层薄薄(约0.3-2μm)但导电的化学铜层,使孔壁和内层铜环具备导电性,为后续电镀铜做准备。
    • 全板电镀铜(Panel Plating Copper): 在化学铜层基础上,通过电镀的方式加厚整个板面上的铜层(包括孔壁铜层),使孔壁铜厚达到设计要求的底铜厚度(如5-8μm以上)。关键目的: 确保孔壁铜层连续、均匀,并达到足够的机械强度和导电性。
  7. 外层线路制作(Pattern Plating):

    • 外层贴膜/涂布光刻胶: 同内层制作流程。
    • 外层曝光: 使用带有外层线路图形(包括焊盘)的底片进行曝光。
    • 显影: 溶解未曝光(或已曝光)区域的光刻胶,露出需要电镀加厚铜层和形成锡/锡铅保护层的区域。
    • 图形电镀(Pattern Plating): 对显影后露出的铜面(线路和孔)进行二次电镀:
      • 电镀铜:进一步加厚线路和孔壁的铜层到最终需要的厚度。
      • 电镀锡(或锡铅合金):在铜层上镀一层较薄的锡(锡铅),作为后续蚀刻时的保护层(抗蚀剂)。
    • 去膜(Stripping): 用药液去除覆盖在非线路区域的光刻胶。
    • 蚀刻(Etching): 将没有被锡层保护的铜箔蚀刻掉,形成最终的外层线路图形。
    • 退锡(Tin Strip): 去除起保护作用的锡层(或锡铅层),露出底下的铜线路图形。
    • AOI光学检测: 再次检查外层线路图形和导通孔的完整性。
  8. 阻焊层(Solder Mask):

    • 清洁与表面处理: 清洁板面,可能需要微蚀或喷砂等增加附着力。
    • 涂布阻焊油墨: 在板面(除需要焊接的焊盘等区域外)涂布液态感光(LPI)阻焊油墨。
    • 预烘(Pre-Cure): 挥发溶剂。
    • 曝光: 使用带有阻焊开窗图案的底片进行曝光。
    • 显影: 溶解未曝光(或已曝光)区域的油墨,露出需要焊接的焊盘、金手指等区域。
    • 固化(Curing / Hardening): 高温烘烤使阻焊油墨完全硬化,具有良好的绝缘性、耐磨性和耐焊性。
  9. 表面处理(Surface Finish):

    • 在露出的铜焊盘(焊盘、金手指、测试点等)上进行表面处理,目的是:
      • 保护铜层不被氧化。
      • 提供良好的焊接性或接触性
    • 常用工艺:
      • 喷锡(HASL - Hot Air Solder Leveling): 热风整平,成本低,工艺成熟。
      • 化学沉金 / 沉镍金(ENIG / ENEPIG): 先在铜上沉积一层镍(防扩散、增强耐磨),再沉积一层薄金(抗氧化、易焊接)。平整性好,适合精细间距。
      • 沉锡(Immersion Tin): 可焊性好,平整。
      • 沉银(Immersion Silver): 可焊性、高频特性好。
      • 电镀硬金(Hard Gold Plating): 主要在金手指区域使用,耐磨性强。
      • OSP(Organic Solderability Preservative): 有机保焊膜,临时保护铜面焊接性。成本低,环保。
  10. 丝印(Legend / Silkscreen Printing):

    • 在阻焊层表面用丝网印刷的方式印刷字符、标识、元件位号等信息,便于组装和识别。通常使用环氧树脂油墨。
    • 烘烤固化: 使油墨固化。
  11. 外形加工(Routing / Profiling):

    • 铣边: 使用数控铣床(V-Cut, Routing)根据设计图纸切割出PCB最终的外形轮廓(需要安装槽、异形孔也在此步骤完成)。
    • 冲压: 对于大批量简单形状也可能采用模具冲压。
    • 倒角 / 去毛刺: 处理边缘毛刺。
  12. 电性能测试(Electrical Test - E-test):

    • 飞针测试(Flying Probe Test): 使用移动探针依次接触测试点,验证网络的连接性(开路/短路)。适用于小批量、复杂板。
    • 针床测试(Fixture Test / Bed of Nails): 制作专用测试夹具,一次性测试所有网络。效率高,适用于大批量生产。
  13. 最终检验与包装(Final Inspection & Packing):

    • FQC(最终质量检验): 对产品的外观、尺寸、阻焊、丝印、孔位等进行抽检或全检(依据标准)。
    • 清洗与烘烤: 可能有清洗去除表面离子残留和烘烤去除水汽。
    • 包装: 根据客户要求进行真空、防潮、防静电包装,通常在洁净、温湿度受控的环境中进行。

关键点说明:

以上就是一个典型多层PCB从原材料到成品的完整工艺流程。每个工厂的细节可能略有差异,且针对特殊设计要求(如HDI、软硬结合板、高频材料、厚铜板等)会有额外的特殊工艺或调整。

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