什么是结型场效应管?它的结构是怎样的?
场效应晶体管可分为结场效应晶体管和MOS场效应晶体管,而MOS场效应晶体管又分为N沟耗尽型和增强型;P沟耗尽型和增强型四大类。
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好的,我们来详细解释一下结型场效应管(JFET)及其结构。
1. 什么是结型场效应管(JFET)?
- 定义: 结型场效应管(Junction Field-Effect Transistor,简称JFET)是一种利用半导体内的电场效应来控制导电沟道宽窄,从而控制电流大小的单极性半导体器件。
- 核心原理: 它通过施加在PN结上的反向电压(栅极-源极电压
V<sub>GS</sub>)来控制导电沟道的电阻。当反向电压增大时,PN结的耗尽区变宽,挤压导电沟道,使其变窄,电阻增大,流过的电流(漏极电流I<sub>D</sub>)减小。反之亦然。 - 特点:
- 电压控制: 栅极输入阻抗极高(因为PN结反偏),栅极电流极小(几乎是微安级或更小),是一个电压控制型器件。
- 单极性: 电流仅由单一极性(多数载流子,电子或空穴)在沟道中流动,所以称为单极性器件(与双极性晶体管BJT对应)。
- 工作原理: 基于耗尽区的变化来控制电流。
2. JFET的结构是怎样的?
一个典型的JFET主要由以下部分组成:
- 半导体衬底: 通常是高电阻率的单晶硅(Si)或砷化镓(GaAs)。
- 导电沟道:
- 在衬底上制造出一条相对高掺杂(低电阻)的半导体区域作为电流通道。
- N沟道JFET: 沟道材料是N型半导体。电流主要由沟道内的自由电子构成。
- P沟道JFET: 沟道材料是P型半导体。电流主要由沟道内的空穴构成。
- 栅极:
- 在沟道的两侧(或单侧,但两侧更常见)制作高掺杂的半导体区域。
- N沟道JFET: 栅区是P型半导体。
- P沟道JFET: 栅区是N型半导体。
- 这样就形成了两个背靠背的PN结。请注意,这两个栅极区域在器件内部是短路连接在一起的,对外只引出一个栅极端子
G。
- 源极: 在沟道的一端制作欧姆接触(金属电极),作为载流子注入(进入)沟道的端子,标记为
S。 - 漏极: 在沟道的另一端制作欧姆接触(金属电极),作为载流子离开沟道的端子,标记为
D。
结构关键点与示意图
- 对称性: 源极和漏极在结构上通常是完全对称的(尤其是在两侧栅的结构中)。它们可以在制造工艺完成后互换使用(但在实际电路中定义后不能随意互换,因有电流方向)。不过在实际应用中,有时会将源极连接到衬底或特定偏置点。
- 栅极夹着沟道: PN结栅极如同夹子一样“夹住”中间的导电沟道,这是JFET名称中“结型”二字的由来。
- 沟道耗尽区: 在栅极和沟道之间的PN结上施加反向电压,会在PN结附近形成没有可移动载流子的区域,称为耗尽区。
- 反向电压
V<sub>GS</sub>越大,耗尽区就越宽。 - 耗尽区会向导电沟道内部延伸,最终挤占沟道的空间。
- 当
V<sub>GS</sub>达到一定负值(称为夹断电压V<sub>P</sub>或V<sub>GS(off)</sub>)时,耗尽区会将整个沟道完全堵住(夹断),理论上漏极电流I<sub>D</sub>被减小到近乎为零(存在极小泄漏电流)。 - 当
V<sub>GS</sub>= 0V 时,沟道最宽,电阻最小。
- 反向电压
简单结构示意图(N沟道JFET):
P+ Gate <-------------------------------------> P+ Gate
||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
|| ||
|| N-CHANNEL || <- 导电沟道(低电阻N型)
|| ||
||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
^ ^
| |
Source (S) Drain (D)
- 图中两侧的
P+是两块高掺杂的P型半导体区域,内部连接在一起引出栅极G。 - 中间的
N-CHANNEL是N型半导体构成的导电沟道。 - 沟道两端分别是源极
S和漏极D。 - 栅极和沟道之间形成两个背靠背的 PN结(图中用竖线
||示意交界部分)。
总结 JFET 结构要点
JFET 的结构核心是:在一个低电阻的导电沟道(N型或P型)的两侧(或一侧)制作高掺杂的相反类型的半导体区域(栅极),从而形成夹持着沟道的两个PN结,沟道两端则引出源极和漏极。 通过控制施加在栅极上的反向电压来改变PN结耗尽区的宽度,从而物理上挤压中间的导电沟道,实现对电流的精确控制。
这种结构简单、稳定,使JFET具有良好的噪声特性(比BJT低)和抗辐射能力,常用于小信号放大(如高输入阻抗的前置放大)、开关电路、恒流源等应用。
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