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什么是结型场效应管?它的结构是怎样的?

场效应晶体管可分为结场效应晶体管和MOS场效应晶体管,而MOS场效应晶体管又分为N沟耗尽型和增强型;P沟耗尽型和增强型四大类。

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好的,我们来详细解释一下结型场效应管(JFET)及其结构。

1. 什么是结型场效应管(JFET)?

2. JFET的结构是怎样的?

一个典型的JFET主要由以下部分组成:

  1. 半导体衬底: 通常是高电阻率的单晶硅(Si)或砷化镓(GaAs)。
  2. 导电沟道:
    • 在衬底上制造出一条相对高掺杂(低电阻)的半导体区域作为电流通道。
    • N沟道JFET: 沟道材料是N型半导体。电流主要由沟道内的自由电子构成。
    • P沟道JFET: 沟道材料是P型半导体。电流主要由沟道内的空穴构成。
  3. 栅极:
    • 在沟道的两侧(或单侧,但两侧更常见)制作高掺杂的半导体区域。
    • N沟道JFET: 栅区是P型半导体。
    • P沟道JFET: 栅区是N型半导体。
    • 这样就形成了两个背靠背的PN结。请注意,这两个栅极区域在器件内部是短路连接在一起的,对外只引出一个栅极端子 G
  4. 源极: 在沟道的一端制作欧姆接触(金属电极),作为载流子注入(进入)沟道的端子,标记为 S
  5. 漏极: 在沟道的另一端制作欧姆接触(金属电极),作为载流子离开沟道的端子,标记为 D

结构关键点与示意图

简单结构示意图(N沟道JFET):

    P+ Gate  <-------------------------------------> P+ Gate
      ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
      ||                                      ||
      ||             N-CHANNEL               ||   <- 导电沟道(低电阻N型)
      ||                                      ||
      ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
        ^                                      ^
        |                                      |
      Source (S)                            Drain (D)

总结 JFET 结构要点

JFET 的结构核心是:在一个低电阻的导电沟道(N型或P型)的两侧(或一侧)制作高掺杂的相反类型的半导体区域(栅极),从而形成夹持着沟道的两个PN结,沟道两端则引出源极和漏极。 通过控制施加在栅极上的反向电压来改变PN结耗尽区的宽度,从而物理上挤压中间的导电沟道,实现对电流的精确控制。

这种结构简单、稳定,使JFET具有良好的噪声特性(比BJT低)和抗辐射能力,常用于小信号放大(如高输入阻抗的前置放大)、开关电路、恒流源等应用。

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