PCB双面板的制造及有哪些工艺要求?
因为双面板的面积比单面板大了一倍,双面板解决了单面板中因为布线交错的难点(可以通过孔导通到另一面),它更适合用在比单面板更复杂的电路上。
PCB双面板的制造涉及多个精密工序,对工艺有严格要求,以下是主要流程及核心工艺要求:
一、双面板制造主要流程
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基材准备
- 使用覆铜层压板(FR-4居多),双面覆铜箔,厚度根据需求选择(如0.8mm、1.6mm)。
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钻孔(Drilling)
- 作用:钻通孔(过孔)用于层间电气连接。
- 要求:孔径精度(±0.05mm)、孔壁光滑无毛刺(避免后续金属化不良)。
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孔金属化(PTH)
- 沉铜(化学沉铜):通过化学镀在孔壁沉积薄铜层(0.3-1μm),导通两面电路。
- 电镀铜:加厚孔铜至20-25μm,确保导电性和机械强度。
- 关键要求:孔铜均匀无空洞,结合力强,导电性达标(需通过背光测试)。
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图形转移(干膜/湿膜)
- 贴膜/涂覆光刻胶:双面涂覆感光材料。
- 曝光显影:通过底片曝光、显影形成电路图形。
- 要求:对位精度(±0.05mm),无断线、残胶。
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蚀刻(Etching)
- 使用酸性蚀刻液(如氨水体系)去除非线路区铜箔。
- 要求:线宽/线距公差±10%,无过蚀刻、侧蚀。
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阻焊层(Solder Mask)
- 印刷/喷涂绿油:覆盖非焊接区域,防氧化、绝缘。
- 曝光显影:露出焊盘。
- 要求:厚度10-30μm,附着力强,耐高温(288℃焊锡试验)。
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表面处理(Surface Finish)
- 常见工艺:
- 喷锡(HASL):成本低,耐焊性强,但平整度差。
- 沉金(ENIG):平整度高,适合细间距焊盘(Ni层3-5μm,Au层0.05-0.1μm)。
- OSP:环保,但保存周期短。
- 要求:厚度均匀,可焊性合格(通过润湿平衡测试)。
- 常见工艺:
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丝印与成形
- 字符印刷:标识元件位置。
- V-CUT/铣切:按外形分割PCB。
- 要求:字符清晰不脱落,尺寸公差±0.1mm。
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电测试(E-Test)
- 飞针测试或针床测试,检查电气连通性和绝缘性。
- 要求:通断测试覆盖率100%,高压绝缘测试(如500V DC)。
二、核心工艺要求
-
层间对准精度
- 双面图形与过孔对位偏差≤±0.075mm,否则易导致短路或开路。
-
过孔可靠性
- 孔铜厚度:≥20μm(IPC CLASS 2标准),高可靠性应用需25μm以上。
- 热应力测试:288℃漂锡3次后无孔铜断裂(模拟焊接冲击)。
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线宽/间距控制
- 常规设计线宽/间距≥0.15mm,精细设计需≥0.1mm,蚀刻后公差±0.02mm。
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阻焊桥(Solder Mask Dam)
- IC引脚间阻焊桥宽度≥0.08mm,防止焊锡桥连。
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铜箔附着力
- 通过胶带测试(IPC-TM-650标准),铜箔无剥离。
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环保与安全
- 符合RoHS指令(无铅喷锡),废水处理达标(如铜离子≤0.5ppm)。
三、设计端配合要点
- 过孔设计:避免孔径<0.2mm(机械钻极限),孔环(Annular Ring)≥0.15mm。
- 焊盘与孔间距:金属化孔边缘到内层铜箔≥0.2mm,防止短路。
- 拼板工艺边:预留≥5mm工艺边,用于夹具定位和V-CUT。
- 阻抗控制:高频信号线需指定线宽/介质层厚,误差±10%。
总结
双面板的核心在于孔金属化质量和双面对位精度,需严控沉铜均匀性、蚀刻精度及表面处理可靠性。生产前应与制造商沟通工艺能力(如最小线宽/孔径),确保设计符合制程参数(如铜厚、公差),并结合应用场景(如高频、高温)选择表面处理工艺,以保证最终产品的性能和良率。
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