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EDA技术具有哪些特点?它的工作流程是怎样的?

EDA技术的出现,极大地提高了电路设计的效率和可操作性,减轻了设计者的劳动强度。

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电子设计自动化(EDA)技术具有以下核心特点

  1. 高度自动化: 核心价值在于将原本需要人工完成的、复杂繁琐的设计任务(如绘图、布局布线、规则检查、逻辑综合等)交由计算机自动处理,大幅提升效率。
  2. 高精度、高效率: 通过精确的算法和模型进行仿真、验证和分析,保证了设计的正确性;自动化工具显著缩短了设计周期,加快了产品上市速度。
  3. 设计复杂性管理: 是现代超大规模集成电路(VLSI)和复杂系统设计的基石。能有效管理数十亿乃至数百亿个晶体管的设计复杂性问题,处理海量的设计规则和约束。
  4. 设计流程支撑: 提供从抽象的高层系统描述到最底层的物理实现完整流程中各个阶段所需的工具和方法学。
  5. 协同设计能力: 支持硬件(HW)、软件(SW)、硬件描述语言(HDL)、模拟/数字混合信号(AMS)等不同领域设计内容的协同设计与验证。
  6. 设计与验证迭代: 强大的仿真、验证和分析功能(如时序分析、功耗分析、信号完整性分析、形式验证等)使得设计过程中可以及早发现并修正错误,减少后期迭代成本。
  7. 基于库的设计: 提供标准单元库、I/O库、IP核库等,供设计者复用成熟设计模块,提高设计质量和效率。
  8. 支持多种设计抽象层次: 覆盖从系统级(行为级)到门级(逻辑级)再到晶体管级(物理级)的不同抽象层级的设计、描述、模拟与实现。
  9. 工具链集成与数据管理: 通常是一个集成的工具生态系统,工具之间能共享设计数据和流程管理信息,保证设计流程的连贯性。
  10. 可制造性设计(DFM)支持: 在物理设计阶段融入对目标制造工艺的限制和优化,提高芯片的可制造性和良率。

EDA技术的主要工作流程

典型的数字集成电路或复杂PCB的EDA工作流程是一个自顶向下(Top-Down) 设计,然后自底向上(Bottom-Up) 实现与验证的过程,主要包括以下步骤:

  1. 设计输入:

    • 设计起点。工程师使用硬件描述语言(如Verilog、VHDL、SystemVerilog)描述系统或模块的行为或结构,或使用原理图(Schematic)输入方式定义电路连接关系。
    • 对于复杂系统/软件协同验证(ESL),也可能使用C/C++/SystemC等高级语言或特定建模语言进行更高层次的系统功能建模。
  2. 功能验证:

    • 目的是确保设计在逻辑功能上符合规格要求(做对的事情)。
    • 使用逻辑仿真器(如ModelSim, VCS, NC-Verilog),为设计施加测试激励(Testbench),模拟实际工作环境,观察输出结果是否符合预期。
    • 高级验证技术包括:形式验证(确保设计等价性或属性满足)、硬件仿真(Emulation,利用FPGA或专用硬件加速大规模仿真)、原型验证(Prototyping,在FPGA上构建接近最终硬件的运行环境)。
  3. 逻辑综合:

    • 将较高层次的行为级或寄存器传输级(RTL)HDL描述,自动转换为由工艺库(标准单元库、门级网表)中的基本逻辑单元(如与门、或门、触发器)组成的门级网表。
    • 此过程需要指定目标工艺(如台积电7nm)、优化目标(性能/面积/功耗)以及各种设计约束(如时钟频率)。
  4. 门级仿真与形式验证(在综合后):

    • 对综合后的门级网表再次进行功能验证(门级仿真),确认综合过程没有引入功能错误。
    • 形式验证(如等价性检查)确保综合后网表与原始RTL描述在功能上是完全等价的。
  5. 布局规划(Floorplanning):

    • 物理设计的起点。确定芯片或PCB的整体物理结构轮廓(Die/Board Shape)。
    • 规划芯片上主要模块(如处理器核、存储器、模拟模块、I/O)的宏观位置和形状(Floorplan)。
    • 定义电源/地(Power/Ground)网络的初步规划。
    • 放置主要的I/O焊盘(Pad)位置。
  6. 布局(Placement):

    • 在布局规划确定的大框架下,由布局工具根据设计网表和时序/面积约束,自动确定每个标准单元(逻辑门、触发器等)在芯片硅片(或PCB上的元器件在板子)上的精确位置。
    • 目标:优化连线长度、时序性能(减少关键路径延迟)、面积利用率、布线拥塞度、功耗和散热。
  7. 时钟树综合(CTS):

    • 构建并优化时钟分配网络,以确保时钟信号能同时(低偏斜)、低失真、低功耗地到达所有时序单元的时钟输入端。
    • 插入必要的缓冲器(Buffer)和反相器(Inverter)来平衡负载和延迟。
  8. 布线(Routing):

    • 根据布局位置和设计网表的连接关系,在芯片上(或PCB上)规划并实际创建连接各个逻辑单元引脚的金属导线轨迹(Wires/Traces)。对于IC,通常在多个金属层上布线。
    • 包含全局布线和详细布线两个阶段。
    • 必须满足制造工艺的设计规则约束(DRC)、电学约束(如EM/IR drop)、信号完整性约束(SI)。
  9. 物理验证与签核分析:

    • 设计规则检查(DRC):验证版图(Layout)是否符合代工厂(Foundry)为特定工艺节点设定的最小线宽、间距等几何规则,确保芯片可制造。
    • 版图与原理图一致性检查(LVS):验证物理版图中图形的连接关系是否与设计网表完全一致。
    • 电气规则检查(ERC):检查基本的电气错误(如短路、开路、悬空引脚、电源/地连接缺失)。
    • 寄生参数提取(PEX):从最终的物理版图中提取所有金属连线和器件之间的寄生电阻(R)、电容(C)、电感(L),生成包含寄生效应的后仿网表。
    • 后仿(含寄生参数的时序/功耗分析):利用PEX提取的寄生参数进行精确的时序分析(STA/SI)和功耗分析(Power Analysis),确保设计在考虑了实际物理实现效应后,仍能满足时序、功耗、噪声等设计要求。
    • 信号完整性分析(SI):分析串扰(Crosstalk)、电迁移(EM)、IR压降(IR Drop)等问题。
  10. 制造文件生成:

    • 一旦所有验证和分析全部通过,物理设计工具会将最终的版图数据转换为代工厂或板厂能够识别的标准格式——GDSII(通常是IC流片的格式)。对于PCB,可能生成Gerber文件、钻孔文件、IPC网表等。
    • 同时生成用于制造所需的配套文件,如用于封装设计的数据等。

关键点

主要的EDA工具供应商包括Cadence Design Systems, Synopsys, Siemens EDA(原Mentor Graphics),以及Keysight,ANSYS等。常用工具包括Cadence Virtuoso, Innovus; Synopsys VCS, Design Compiler, IC Compiler, StarRC, PrimeTime; Siemens EDA的Calibre(物理验证),Tessent(测试)等。

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