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pcb多边形填充挖空

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在PCB设计中,进行多边形填充(覆铜)挖空的操作是为了在覆铜区域内创建无铜区域,以满足电气隔离、散热或高频信号完整性等需求。以下是详细步骤和注意事项(以主流软件Altium Designer为例):


操作步骤

  1. 创建多边形填充(覆铜)

    • 选择层(如Top/Bottom Layer)→ 点击菜单栏的 Place > Polygon Pour
    • 绘制封闭的多边形轮廓,设置属性(网络、填充模式等)。
  2. 添加挖空区域

    • 方法1:直接绘制挖空

      • 点击 Place > Polygon Pour Cutout
      • 在已存在的覆铜区域内,绘制一个封闭图形(如矩形、圆形)。
      • 完成后,覆铜会自动避开该区域。
    • 方法2:通过禁止区域(Keepout)

      • 点击 Place > Keepout > Polygon Cutout
      • 绘制封闭图形(需完全位于覆铜内部)。
      • 覆铜填充时将跳过此区域。
  3. 重新生成覆铜

    • 右键点击覆铜 → 选择 Polygon Actions > Repour Selected(或快捷键 T+G+R)。

关键注意事项

  1. 挖空必须是封闭图形

    • 开放路径无法形成挖空,需确保起点和终点闭合。
  2. 挖空与覆铜的层级关系

    • 挖空必须绘制在覆铜所在的同一层(如Top Layer的挖空需在Top层创建)。
  3. 设计规则检查(DRC)

    • 挖空边缘与其他走线的间距需满足设计规则(在 Design > Rules 中设置Clearance规则)。
  4. 高频应用

    • 对高速信号线下方挖空(如RF走线),可减少寄生电容,提升信号质量。

其他软件操作


常见问题解决

通过以上步骤,可在覆铜区域精准挖空,平衡电气性能和散热需求。

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